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J-GLOBAL ID：200903028579099663

レジスト材料およびレジストパターン形成方法

Inventor： 木村 良佳
Applicant, Patent owner： 三菱電機株式会社
Agent (1)： 高田 守 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995065814
Publication number (International publication number)：1996262743
Application date： Mar. 24, 1995
Publication date： Oct. 11, 1996
Summary：

【要約】【目的】 電子ビーム描画技術および光転写技術の両技術を利用可能なレジスト材料を得る。【構成】 電子ビームに対してのみ感度を有する第1の酸発生剤11と、光に対する感度を有する第2の酸発生剤12と、ポリマー主鎖13aおよび保護基13bから成る酸崩壊型樹脂13とを備える。

Claim (excerpt)：

電子ビームに対してのみ感度を有する第1の酸発生剤と、光に対する感度を有する第2の酸発生剤とを備えたことを特徴とするレジスト材料。

IPC (5)：

G03F 7/38 511 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/038 505 ,  G03F 7/20 504 ,  H01L 21/027

FI (7)：

G03F 7/38 511 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/038 505 ,  G03F 7/20 504 ,  H01L 21/30 541 M ,  H01L 21/30 541 K ,  H01L 21/30 568

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 感光性樹脂
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-285774   Applicant：日本電気株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-340981   Applicant：日本合成ゴム株式会社