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J-GLOBAL ID：200903052080778967

感放射線性樹脂組成物

Inventor：
村田 誠

About 村田 誠

, 
鈴木 正睦

About 鈴木 正睦

, 
小林 泰隆

About 小林 泰隆

, 
辻 昭

About 辻 昭


Applicant, Patent owner：
日本合成ゴム株式会社

About 日本合成ゴム株式会社


Agent (1)： 福沢 俊明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992340981
Publication number (International publication number)：1994167811
Application date： Nov. 30, 1992
Publication date： Jun. 14, 1994
Summary：
【要約】【目的】 解像度、パターン形状とその安定性、現像性等に優れたレジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。【構成】 (イ)感放射線性酸発生剤、(ロ)アルカリ可溶性樹脂中のアルカリ親和性官能基の一部を酸解離性基で保護した樹脂および(ハ)低分子フェノール性化合物中の水酸基の水素原子を、アルコキシアルキル基、環式エーテル基、ビニルオキシアルキル基またはt-アルコキシカルボニルアルキル基で置換した化合物を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。
Claim (excerpt)：
(イ)感放射線性酸発生剤、(ロ)アルカリ可溶性樹脂中のアルカリ親和性官能基の一部を酸解離性基で保護した樹脂および(ハ)低分子フェノール性化合物中の水酸基の水素原子を、アルコキシアルキル基、環式エーテル基、ビニルオキシアルキル基またはt-アルコキシカルボニルアルキル基で置換した化合物を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。
IPC (5)：
G03F 7/038 505 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (15)
  • 特開平4-158363
  • 特開平4-215662
  • 特開平2-177031
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