Pat
J-GLOBAL ID:200903028624194761

カラーフィルタ製造方法およびTFT回路製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 津川 友士
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994048776
Publication number (International publication number):1995261013
Application date: Mar. 18, 1994
Publication date: Oct. 13, 1995
Summary:
【要約】【目的】 カラーフィルタ、TFT回路をフォトリソグラフ法により製造する場合において、現像むらの発生を防止する。【構成】 現像部2と洗浄部4との間にニュートラル部3を設け、ニュートラル部3においてエアーナイフ部3aにより残留する現像液切り処理を行ない、ガラス基板の少なくとも一部が乾燥する前に純水シャワー3bにより純水を散布し、ガラス基板を乾燥させることなく水洗部4に搬送する。
Claim (excerpt):
フォトリソグラフ法を用いてガラス基板上にカラーフィルタを製造する方法において、処理液を用いてガラス基板上の膜に対する処理を行なう膜処理部(2)と、膜処理部(2)において付着した処理液を洗い流す洗浄部(4)に接続部(3)を設け、該接続部(3)において、処理液切りの後、ガラス基板の少なくとも一部が乾燥する前にガラス基板に対して液体を付与することを特徴とするカラーフィルタ製造方法。
IPC (6):
G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 505 ,  G02F 1/136 500 ,  H01L 21/304 341 ,  B08B 3/00 ,  G03G 15/01 115
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)

Return to Previous Page