相変化型光記録媒体の保護膜形成用スパッタリングターゲット材料およびその製造法

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：和田憲治 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997187266
Publication number (International publication number)：1999021664
Application date： Jun. 30, 1997
Publication date： Jan. 26, 1999
Summary：

【要約】【課題】相変化型光記録媒体のZnS-SiO<SB>2 </SB>系保護膜をスパッタリングによって成膜するためのターゲット材料として,プレスパッター時間を短縮し且つスパッターレートを増進し,しかも高品質の保護膜が形成できるターゲット材料を得る。【解決手段】 ZnSとSiO<SB>2 </SB>からなるスパッタリングターゲット材料であって,ZnSに対するZnO<SB>2-X </SB>(0≦X<2)とZnCO<SB>3 </SB>の含有比率が,ESCAで検出されるこれら化合物のピーク面積強度で評価したときに,(ZnO<SB>2-X </SB>+Zn(OH)<SB>2</SB>+ZnCO<SB>3 </SB>)/ZnSの面積強度比≦1である,相変化型光記録媒体の保護膜形成用スパッタリングターゲット材料。

Claim (excerpt)：

ZnSとSiO<SB>2 </SB>からなるスパッタリングターゲット材料であって,ZnSに対するZnO<SB>2-X </SB>(0≦X<2),Zn(OH)<SB>2</SB> ,ZnCO<SB>3</SB>の含有比率が,ESCAで検出されるこれら化合物のピーク面積強度で評価したときに,(ZnO<SB>2-X </SB>+Zn(OH)<SB>2</SB>+ZnCO<SB>3 </SB>)/ZnSの面積強度比≦1である,相変化型光記録媒体の保護膜形成用スパッタリングターゲット材料。

IPC (2)：

C23C 14/34 , C04B 35/547

FI (2)：

C23C 14/34 A , C04B 35/00 T

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

光記録保護膜用スパッタリング・ターゲットおよびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-241148 Applicant：同和鉱業株式会社
特開平2-258664
特開平1-164750

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