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J-GLOBAL ID：200903028634604399
相変化型光記録媒体の保護膜形成用スパッタリングターゲット材料およびその製造法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
和田 憲治 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997187266
Publication number (International publication number)：1999021664
Application date： Jun. 30, 1997
Publication date： Jan. 26, 1999
Summary：
【要約】【課題】 相変化型光記録媒体のZnS-SiO<SB>2 </SB>系保護膜をスパッタリングによって成膜するためのターゲット材料として,プレスパッター時間を短縮し且つスパッターレートを増進し,しかも高品質の保護膜が形成できるターゲット材料を得る。【解決手段】 ZnSとSiO<SB>2 </SB>からなるスパッタリングターゲット材料であって,ZnSに対するZnO<SB>2-X </SB>(0≦X<2)とZnCO<SB>3 </SB>の含有比率が,ESCAで検出されるこれら化合物のピーク面積強度で評価したときに,(ZnO<SB>2-X </SB>+Zn(OH)<SB>2</SB>+ZnCO<SB>3 </SB>)/ZnSの面積強度比≦1である,相変化型光記録媒体の保護膜形成用スパッタリングターゲット材料。
Claim (excerpt)：
ZnSとSiO<SB>2 </SB>からなるスパッタリングターゲット材料であって,ZnSに対するZnO<SB>2-X </SB>(0≦X<2),Zn(OH)<SB>2</SB> ,ZnCO<SB>3</SB>の含有比率が,ESCAで検出されるこれら化合物のピーク面積強度で評価したときに,(ZnO<SB>2-X </SB>+Zn(OH)<SB>2</SB>+ZnCO<SB>3 </SB>)/ZnSの面積強度比≦1である,相変化型光記録媒体の保護膜形成用スパッタリングターゲット材料。
IPC (2)：
FI (2)：
C23C 14/34 A
, C04B 35/00 T
