細胞をパターン状に接着するための基板作製法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (2)：三枝英二 (外1名) , 三枝英二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997337712
Publication number (International publication number)：1999151086
Application date： Nov. 20, 1997
Publication date： Jun. 08, 1999
Summary：

【要約】【課題】細胞をパターン状に整列するための基板に関する。【解決手段】細胞の接着を阻害する材料を含む微細パターンを有する基板;およびレジスト材料を被覆した基板上にリソグラフィ法により微細構造のパターンを形成する工程、得られた微細パターン上に細胞の接着を阻害する材料を適用する工程および非パターン部分のフォトレジストを除去する工程を含む、細胞の接着を阻害する材料を含む微細パターンを備えた基板の作製法。

Claim (excerpt)：

細胞の接着を阻害する材料を含む微細パターンを有する基板。

IPC (3)：

C12N 11/00 , C12N 5/06 , C12N 11/14

FI (3)：

C12N 11/00 , C12N 11/14 , C12N 5/00 E

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

細胞配列素子および細胞培養基板
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-035846 Applicant：株式会社日立製作所
特開平3-007576
特開平3-007577

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