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J-GLOBAL ID:200903028866466600

薄膜太陽電池

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 三品 岩男
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996228412
Publication number (International publication number):1998074967
Application date: Aug. 29, 1996
Publication date: Mar. 17, 1998
Summary:
【要約】【課題】従来用いることができなかった新規な組成のp型CIS系材料を光吸収層とした太陽電池を製造する方法を提供する。【解決手段】光吸収層12として、Ib族元素と、III族元素と、VIb族元素とを含むp型の化合物半導体薄膜を有する。化合物半導体薄膜は、Ia族元素が添加され、化合物半導体薄膜に含まれるIb族元素のIII族元素に対する比率が、0.22以上0.75以下である。
Claim (excerpt):
光吸収層として、Ib族元素と、III族元素と、VIb族元素とを含むp型の化合物半導体薄膜を有し、前記化合物半導体薄膜は、Ia族元素が添加され、前記化合物半導体薄膜に含まれるIb族元素のIII族元素に対する比率が、0.22以上0.75以下であることを特徴とする薄膜太陽電池。
IPC (2):
H01L 31/04 ,  C23C 14/06
FI (2):
H01L 31/04 E ,  C23C 14/06 L
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)

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