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J-GLOBAL ID:200903028895367866

荷電粒子ビーム出射方法及びその出射装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 高田 幸彦 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998097835
Publication number (International publication number):1998261500
Application date: Jun. 25, 1993
Publication date: Sep. 29, 1998
Summary:
【要約】【課題】出射ビームのエネルギーが変化しても常に高効率でビーム出射ができる。【解決手段】制御装置10は、出射ビームのエネルギーに応じて高周波信号発生装置11を制御する。この制御により、高周波信号発生装置11はそのエネルギーに応じた必要な周波数成分を有する高周波信号15を発生させる。高周波信号15はゲインコントローラ13により電極7に印加すべき振幅に調整され、高周波電圧16として電極7に印加される。照射室9では放射線モニター8で照射線量を測定し、比較器12は放射線モニター8から出力される照射線量の測定値17と、制御装置10から出力される照射線量の設定値14bとを比較し、測定値17が設定値14bとなるように、ゲインコントローラ13にゲインコントロール信号18を出力し、電極7に印加する高周波電圧16の振幅を制御する。
Claim (excerpt):
加速器の周回軌道を周回する荷電粒子ビームを高周波電磁界を用いて出射する荷電粒子ビーム出射方法において、出射される前記荷電粒子ビームのエネルギーを用いて出射に使用する前記高周波電磁界の中心周波数及び周波数幅を求め、該中心周波数及び周波数幅を有する高周波電磁界を周回する前記荷電粒子ビームに印加して荷電粒子ビームの出射を行なうことを特徴とする荷電粒子ビーム出射方法。
IPC (3):
H05H 13/04 ,  G21K 5/04 ,  H05H 7/10
FI (3):
H05H 13/04 G ,  G21K 5/04 D ,  H05H 7/10
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)

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