ポジ型レジスト組成物

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：諸石光▲ひろ▼ (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992124536
Publication number (International publication number)：1993323597
Application date： May. 18, 1992
Publication date： Dec. 07, 1993
Summary：

【要約】【目的】解像度、プロファイル及び焦点深度等の諸性能のバランスに優れたポジ型レジスト組成物を提供する。【構成】一般式【化1】(式中、R1 及びR2 は水素、ハロゲン、-OCOR3 、アルキル又はアルコキシを表わし、R3 はアルキル又はフェニルを表わす。x 及びy は1〜3である。R、R0 、R’及びR0 ’は水素、アルキルもしくはフェニルである。)で示されるフェノール化合物の中の少なくとも1種のキノンジアジドスルホン酸ジエステルを含むキノンジアジド系感光剤及びアルカリ可溶性樹脂を含有すること、並びに上記ジエステルの含量が全感光剤中、50%以上であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。

Claim (excerpt)：

一般式【化1】(式中、R1 及びR2 は各々独立して水素もしくはハロゲン原子、-OCOR3或いは置換されていてもよいアルキルもしくはアルコキシ基を表わし、R3 は置換されていてもよいアルキルもしくはフェニル基を表わす。x 及びy は各々独立して1〜3の整数を表わす。R、R0 、R’及びR0 ’は各々独立して水素原子、アルキルもしくはフェニル基を表わす。)で示されるフェノール化合物の中の少なくとも1種のキノンジアジドスルホン酸ジエステルを含むキノンジアジド系感光剤及びアルカリ可溶性樹脂を含有すること、並びに高速液体クロマトグラフィーにより測定した上記キノンジアジドスルホン酸ジエステルの全キノンジアジド系感光剤に対するパターン面積比が0.5 以上であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (2)：

G03F 7/022 , H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

特開平2-019846
特開平4-060548
特開平2-254451

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