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J-GLOBAL ID：200903028971539345
反応性ポリメチルシルセスキオキサン
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
寺田 實
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993217740
Publication number (International publication number)：1995070321
Application date： Sep. 01, 1993
Publication date： Mar. 14, 1995
Summary：
【要約】 (修正有)【構成】 全側鎖有機基のうち50〜99モル%がメチル基であり、1 〜40モル%が架橋性反応基または架橋性反応基を置換基として有する有機基であり、残余が炭素数2〜6個のアルキル基、置換もしくは非置換フェニル基、水酸基または炭素数1〜6個のアルコキシ基であり、末端基が水酸基または炭素数1〜6個のアルコキシ基である数平均分子量500 〜100,000 のポリメチルシルセスキオキサンにおいて、その水酸基およびアルコキシ基の30〜95モル%がトリメチルシリル化されていることを特徴とする反応性ポリメチルシルセスキオキサン。【効果】 メチル基と架橋性反応基とを側鎖に有するラダーシリコーンを安定に製造することができる。
Claim (excerpt)：
全側鎖有機基のうち50〜99モル%がメチル基であり、1 〜40モル%が架橋性反応基または架橋性反応基を置換基として有する有機基であり、残余が炭素数2〜6個のアルキル基、置換もしくは非置換フェニル基、水酸基または炭素数1〜6個のアルコキシ基であり、末端基が水酸基または炭素数1〜6個のアルコキシ基である数平均分子量500 〜100,000 のポリメチルシルセスキオキサンにおいて、その水酸基およびアルコキシ基の30〜95モル%がトリメチルシリル化されていることを特徴とする反応性ポリメチルシルセスキオキサン。
Patent cited by the Patent：
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