Pat

J-GLOBAL ID：200903029070832252

圧電結晶発振式膜厚計

Inventor： 伊藤 敦 ,  奥野 亨 ,  宮嶋 孝明 ,  倉内 利春
Applicant, Patent owner： 日本真空技術株式会社
Agent (1)： 飯阪 泰雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997344055
Publication number (International publication number)：1999160057
Application date： Nov. 28, 1997
Publication date： Jun. 18, 1999
Summary：

【要約】【課題】 圧電結晶の交換頻度を低減して従来より寿命を長くすることができる圧電結晶発振式膜厚計を提供すること。【解決手段】 圧電結晶3の固有振動数を5MHzよりも低くして、表面3aに堆積した膜の応力による影響を小さくし、圧電結晶の基本振動を維持させる。また、圧電結晶3の表裏面3a、3bに形成する電極膜10a、10bをそれぞれ島状に形成すると共に、圧電結晶3の周縁部における表面3aと裏面3bとで電極膜10a、10bの形成領域が重ならないようにして、圧電結晶3の周縁部にて現れる寄生振動を抑制し、圧電結晶3の基本振動を維持させる。これにより、圧電結晶3の寿命を従来より大幅に向上させることができる。

Claim (excerpt)：

真空チャンバ内に設置された圧電結晶上へ成膜材料を堆積させ、前記成膜材料の堆積による前記圧電結晶の固有振動数の変化に基づいて、被処理基板上に堆積される前記成膜材料の膜厚を測定するようにした圧電結晶発振式膜厚計において、前記圧電結晶の固有振動数を5メガヘルツよりも低くすることにより、成膜中における前記圧電結晶の基本振動を維持させるようにしたことを特徴とする圧電結晶発振式膜厚計。

IPC (2)：

G01B 17/02 ,  C23C 14/54

FI (2)：

G01B 17/02 A ,  C23C 14/54 C

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 蒸着装置における膜厚監視制御装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-217464   Applicant：日本真空技術株式会社
• 電極成膜装置用モニター
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-085685   Applicant：ミヨタ株式会社
• 特開昭54-154985