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J-GLOBAL ID：200903029073727450

防食用チタン酸化膜の作製方法および防食用チタン酸化膜

Inventor：
久保田 伸彦

About 久保田 伸彦

, 
勝谷 涼一

About 勝谷 涼一

, 
綾部 統夫

About 綾部 統夫


Applicant, Patent owner：
石川島播磨重工業株式会社

About 石川島播磨重工業株式会社


Agent (1)： 志賀 正武 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996290889
Publication number (International publication number)：1998130810
Application date： Oct. 31, 1996
Publication date： May. 19, 1998
Summary：
【要約】【課題】 光半導体としての機能向上させて防食性を高め、被防食材への密着性を確保するとともに、成膜時の作業性を向上させる。【解決手段】 高温のプラズマ流によって溶融状態のn型TiO2 粒子を被防食材に溶着させ、溶着させたTiO2 膜の上にn型TiO2 粒子による光半導体膜を溶着させるとともに、プラズマ流の温度を徐々に低くして表面のn型TiO2粒子の比率を高くする。
Claim (excerpt)：
n型TiO2 粒子をプラズマ流に乗せて被防食材(1)の表面に溶射することにより光半導体特性を有するTiO2 膜(X)を作製する方法であって、TiO2 粒子を溶融して被防食材に溶融凝固層(2)を作製する工程と、プラズマ溶射温度を高温から低温にしてn型TiO2 粒子を溶着させることにより粒子層(4)を作製する工程とを有することを特徴とする防食用チタン酸化膜の作製方法。
IPC (4)：
C23C 4/12 ,  C23C 4/10 ,  C23F 15/00 ,  G21D 1/00 GDL
FI (4)：
C23C 4/12 ,  C23C 4/10 ,  C23F 15/00 ,  G21D 1/00 GDL W
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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