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J-GLOBAL ID：200903029097776990

平板投影装置、素子製造方法およびそれによって製造された素子

Inventor： テオドルス フベルトウス ヨゼフス ビショップス
Applicant, Patent owner： エイエスエム リトグラフィー ベスローテン フエンノートシャップ
Agent (1)： 浅村 皓 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001234593
Publication number (International publication number)：2002124461
Application date： Aug. 02, 2001
Publication date： Apr. 26, 2002
Summary：

【要約】【課題】 本発明は諸要素をより良好に等温に保持しうる改良された平板投影装置を提供する。【解決手段】 マスクテーブルMT、基板テーブルWT、投影システムPLおよび隔離した基準フレームMFからなる群から選択した少なくとも1個の要素を少なくとも部分的に囲み、囲まれた要素の温度を制御する少なくとも1個の温度制御部材VC,TE,TBを含む。それが部分的に囲む要素を作動の間等温に保持しやすくする表面仕上げが前記温度制御部材に対して選択される。

Claim (excerpt)：

放射線の投影ビームを提供する放射システムと、所望のパターンに従って投影ビームをパターン化するように作用するパターン化手段を支持する支持構造体と、基板を保持する基板テーブルと、前記基板の目標部分上にパターン化されたビームを投影する投影システムと、前記パターン化手段と基板との少なくとも一方のための位置センサが装着される隔離した基準フレームと、前記支持構造体、前記基板テーブル、前記投影システムおよび前記隔離した基準フレームからなる群から選択した少なくとも1個の要素を密閉する真空室と、前記要素のうちの少なくとも1個を前記真空室において少なくとも部分的に囲む少なくとも1個の温度制御部材であって、作動の間前記少なくとも1個の要素を等温に保つように実質的に吸収および放射を阻止する表面仕上げを少なくとも部分的に有する材料から少なくとも部分的に形成された温度制御部材とを含むことを特徴とする平板投影装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (5)：

G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 516 E ,  H01L 21/30 516 B ,  H01L 21/30 518 ,  H01L 21/30 531 A

F-Term (9)：

5F046BA05 ,  5F046BA07 ,  5F046CC08 ,  5F046DA26 ,  5F046DB02 ,  5F046GA06 ,  5F046GA07 ,  5F046GA11 ,  5F046GA14

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 温調装置及び走査型露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-267824   Applicant：株式会社ニコン