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J-GLOBAL ID：200903029132355146

シクロブテン系化合物,その製法並びにスクアリリウム系化合物の製造法

Inventor：
中澄 博行

About 中澄 博行


Applicant, Patent owner：
三菱化成株式会社

About 三菱化成株式会社


Agent (1)： 長谷川 曉司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993052282
Publication number (International publication number)：1994263732
Application date： Mar. 12, 1993
Publication date： Sep. 20, 1994
Summary：
【要約】 (修正有)【構成】 式〔I〕のシクロブテン系化合物、及びこれを式〔II〕のインドリン系化合物と、1,2-ジクロロ-1-シクロブテン-3,4-ジオンとを反応させることによって製造する方法。並びに式〔I〕のシクロブテン系化合物と2-メチル複素環誘導体とを反応させることによる式〔IV〕の非対称型スクアリリウム系化合物の製造方法。[式中、R1,R2はアルキル基を示し、あるいは互に連絡して環を形成する。R3,R4は(置換)アルキル基を示し、環Aは(置換)ベンゼン環、あるいは(置換)ナフタリン環、環Bは含窒素複素環である]【効果】 スクアリリウム系化合物は、長波長光に吸収を有するので、レーザー製版等の分野に非常に有用である。
Claim (excerpt)：
下記一般式〔I〕で示されるシクロブテン系化合物【化1】(R1 ,R2 はアルキル基を示し、互いに連絡して環を形成してもよい。R3 は置換基を有していてもよいアルキル基を示し、環Aは置換基があってもよいベンゼン環またはナフタリン環を示す。)
IPC (18)：
C07D209/96 ,  C07D209/12 ,  C07D209/60 ,  C07D401/08 209 ,  C07D405/06 209 ,  C07D405/14 209 ,  C07D417/08 209 ,  C09B 57/00 ,  G02F 1/35 504 ,  G03G 5/06 384 ,  C07D401/08 ,  C07D209:00 ,  C07D215:00 ,  C07D405/06 ,  C07D307:00 ,  C07D405/14 ,  C07D417/08 ,  C07D277:00
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
  • 特開平4-106548
  • 特開平2-190390
  • 特開平3-188063
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