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J-GLOBAL ID：200903029154789301
ポリオレフィンの製造法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
湯浅 恭三 (外5名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994233613
Publication number (International publication number)：1995179512
Application date： Sep. 28, 1994
Publication date： Jul. 18, 1995
Summary：
【要約】 (修正有)【目的】広い分子量分布をもつポリオレフィンの製造法。【構成】一重、二重または多重であってもよい分子量分布がMw/Mn≧3.0であるポリオレフィンは、アルミノキサンと、式Iの少なくとも1種のジルコノセン等からなる遷移金属成分(メタロセン)とからなる触媒系でオレフィンを重合または共重合することにより得ることができる。〔例えばジメチルシランジイルビス(2-メチル-4-フェニル-1-インテニル)ZrCI2
Claim (excerpt)：
式:RaCH=CHRb[式中、Ra及びRbは同一でも異なっていてもよく、水素原子若しくは炭素原子1〜14個のアルキル基であるか、またはRaとRbとはこれらに接続する原子と一緒に環系を形成し得る]のオレフィンを、温度50〜200°C、圧力0.5〜100バールで、溶液、懸濁液または気相中、遷移金属成分(メタロセン)と、線状型の場合には、式II:【化1】及び/または環式型の場合には、式III:【化2】[式中、式II及びIII中のR基は同一でも異なっていてもよく、C1〜C6アルキル基、C1〜C6フルオロアルキル基、C6〜C18アリール基、C1〜C6フルオロアリール基または水素であり、及びnは0〜50の整数である]のアルミノオキサンとの、またはこのアルミノオキサンの代わりに式II及び/または式IIIのアルミノオキサンとAlR3化合物との混合物とからなる触媒の存在下、重合または共重合することにより、一重、二重または多重であってもよい分子量分布Mw/Mn≧3.0のポリオレフィンを製造する方法であって、式Iの少なくとも1種のジルコノセン及び式Iaの少なくとも1種のジルコノセンまたは式Iの少なくとも2種のジルコノセン:【化3】[式中、R1及びR2は同一でも異なっていてもよく、水素原子、C1〜C10アルキル基、C1〜C10アルコキシ基、C6〜C10アリール基、C6〜C10アリールオキシ基、C2〜C10アルケニル基、C7〜C40アリールアルキル基、C7〜C40アルキルアリール基、C8〜C40アリールアルケニル基またはハロゲン原子であり、R3は、水素、ハロゲン原子、ハロゲン化されていてもよいC1〜C10アルキル基、C6〜C10アリール基、C2〜C10アルケニル基、C7〜C40アリールアルキル基、C7〜C40アルキルオキシ基、C8〜C40アリールアルケニル基、-NR102、-OR10、-SR10、-OSiR103、-SiR103または-PR102基(但し、R10はハロゲン原子、C1〜C10アルキル基またはC6〜C10アリール基である)であり、R4は、同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、C1〜C20アルキル基、C1〜C20フルオロアルキル基、C6〜C30アリール基、C6〜C30フルオロアリール基、C1〜C20アルコキシ基、C2〜C20アルケニル基、C7〜C40アリールアルキル基、C8〜C40アリールアルケニル基、C7〜C40アルキルアリール基、-NR102、-OR10、-SR10、-OSiR103、-SiR103または-PR102基(但し、R10は、ハロゲン原子、C1〜C10アルキル基またはC6〜C10アリール基である)であり、但し、インデニル環当たり少なくとも1つのR4基は水素ではないか、または2個以上のR4基はこれらと結合する原子と環系を形成し;R5及びR6は同一でも異なっていてもよく、ハロゲン原子、ハロゲン化されていてもよいC1〜C10アルキル基、C6〜C10アリール基、C2〜C10アルケニル基、C7〜C40アリールアルキル基、C7〜C40アルキルオキシ基、C8〜C40アリールアルケニル基、-NR102、-OR10、-SR10、-OSiR102、-SiR102または-PR102基(但し、R10はハロゲン原子、C1〜C10アルキル基またはC6〜C10アリール基である)であり;R7は、【化4】=BR11、=AlR11、-Ge-、-Sn-、-O-、-S-、=SO、=SO2、=NR11、=CO、=PR11またはP(O)R11(但し、R11、R12及びR13は同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、C1〜C20アルキル基、C1〜C20フルオロアルキル基、C6〜C30アリール基、C6〜C30フルオロアリール基、C1〜C20アルコキシ基、C2〜C20アルケニル基、C7〜C40アリールアルキル基、C8〜C40アリールアルケニル基、C7〜C40アルキルアリール基であるか、またはR11とR12若しくはR11とR13とは、各々これらと結合する原子と環系を形成し、M1は、ケイ素、ゲルマニウムまたはスズである)であり;R8及びR9は同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、C1〜C20アルキル基、C1〜C20フルオロアルキル基、C6〜C30アリール基、C6〜C30フルオロアリール基、C1〜C20アルコキシ基、C2〜C20アルケニル基、C7〜C40アリールアルキル基、C8〜C40アリールアルケニル基、C7〜C40アルキルアリール基であるか、またはR8とR9とは各々これらと接続する原子と環系を形成し;R14及びR15は同一でも異なっていてもよく、ジルコニウム原子とサンドイッチ構造を形成してもよい一環式または多環式炭化水素基であり;m及びnは同一でも異なっていてもよく、0、1または2であり、但し、m+nは0、1または2である]を遷移金属成分として使用することを特徴とする該製造方法。
IPC (2)：
C08F 4/642 MFG
, C08F 10/00
