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J-GLOBAL ID：200903029180748010

陽子放出治療用システム

Inventor：
ペドローニ・エーロス

About ペドローニ・エーロス


Applicant, Patent owner：
パウル・シェラー・インスティトゥート

About パウル・シェラー・インスティトゥート


Agent (3)： 江崎 光史 ,  奥村 義道 ,  鍛冶澤 實
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2007509893
Publication number (International publication number)：2007534391
Application date： Feb. 19, 2005
Publication date： Nov. 29, 2007
Summary：
【解決手段】 対象物(M)内の所定容積(T)の強度調整陽子治療用システムが開示され、a)ビーム強度に関して調整できる陽子ビーム(B)を発生させるための陽子源と;b)陽子ビーム(B)中の所望陽子エネルギーに陽子ビーム(B)中の陽子のエネルギーを弱めるために陽子ビーム(B)中に任意に配置できる分解器と;c)多数の陽子ビームを曲げ及び焦点合せ又はそのいずれか一方を行うユニットと;d)対象物(M)の所定容量(T)を貫通する陽子ビーム(B)用の出口を有するビームノズル(N)と;e)ノズル(N)の上流に配置されているビーム曲げ磁石(A3)と;f)陽子ビーム(B)がビーム曲げ磁石(A3)に入る前に陽子ビーム(B)を両方向T,U)に掃引するために前記ビーム曲げ磁石(A3)の上流に配置されている一対の掃引磁石(WT、WU)と;g)前記ビームノズル(N)は10乃至30cm2 の範囲における陽子ビーム(B)に実質的に垂直な横断面走査領域(SF)を定義しており、そしてh)前記掃引磁石(WT、WU)と前記ビーム曲げ磁石(A3)が完全な横断面走査領域(SF)上に平行なビーム配向を保証するように制御されることから成る。
Claim (excerpt)：
対象物(M)内の所定容積(T)の強度調整陽子治療用システムにおいて、 a)ビーム強度に関して調整できる陽子ビーム(B)を発生させるための陽子源と; b)陽子ビーム(B)中の所望陽子エネルギーに陽子ビーム(B)中の陽子のエネルギーを弱めるために陽子ビーム(B)中に任意に配置できる分解器と; c)多数の陽子ビームを曲げ及び焦点合せ又はそのいずれか一方を行うユニットと; d)対象物(M)の所定容量(T)を貫通する陽子ビーム(B)用の出口を有するビームノズル(N)と; e)ノズル(N)の上流に配置されているビーム曲げ磁石(A3)と; f)陽子ビーム(B)がビーム曲げ磁石(A3)に入る前に陽子ビーム(B)を両方向T,U)に掃引するために前記ビーム曲げ磁石(A3)の上流に配置されている一対の掃引磁石(WT、WU)と; から成り、 g)前記ビームノズル(N)は10乃至30cm2 の範囲における陽子ビーム(B)に実質的に垂直な横断面走査領域(SF)を形成しており、 h)前記掃引磁石(WT、WU)と前記ビーム曲げ磁石(A3)が完全な横断面走査領域(SF)上に平行なビーム配向を保証するように制御されることをう特徴とするシステム。
IPC (1)：
A61N 5/10
FI (1)：
A61N5/10 H
F-Term (8)：
4C082AA01 ,  4C082AC05 ,  4C082AE03 ,  4C082AG01 ,  4C082AG12 ,  4C082AG44 ,  4C082AG53 ,  4C082AL07
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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