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J-GLOBAL ID：200903029189618445

光学素子の製造装置および光学素子の製造方法

Inventor：
松原 和徳

About 松原 和徳

, 
伊藤 健二

About 伊藤 健二


Applicant, Patent owner：
シャープ株式会社

About シャープ株式会社


Agent (1)： 青山 葆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999055281
Publication number (International publication number)：2000246810
Application date： Mar. 03, 1999
Publication date： Sep. 12, 2000
Summary：
【要約】【課題】 生産時間が短くて、生産効率の高い光学素子の製造装置および光学素子の製造方法を提供する。【解決手段】 この光学素子の製造方法および製造装置によれば、上,下スタンパ41,40を紫外線透過型材質とし、透明基材1の表側と裏側に配置した紫外線硬化樹脂2b,2aを上,下スタンパ41,40で挟んで、紫外線硬化樹脂2b,2aに原盤パターンを転写し、上,下スタンパ41,40に挟まれた紫外線硬化樹脂2b,2aに紫外線を照射して、透明基材1の表と裏に光学パターンを一括成形できる。
Claim (excerpt)：
転写用表スタンパと転写用裏スタンパが有する原盤パターンを、透明基材の表面と裏面に転写して、上記透明基材に光学パターンを形成する光学素子の製造方法であって、上記表,裏スタンパを紫外線透過型材質とし、上記透明基材の表側と裏側に配置した紫外線硬化樹脂を上記表,裏スタンパで挟んで、上記紫外線硬化樹脂に上記原盤パターンを転写し、上記表,裏スタンパに挟まれた紫外線硬化樹脂に紫外線を照射して、上記透明基材の表と裏に光学パターンを一括成形することを特徴とする光学素子の製造方法。
IPC (6)：
B29D 11/00 ,  G02B 5/18 ,  G02B 5/32 ,  G03H 1/18 ,  G11B 7/135 ,  G11B 7/22
FI (6)：
B29D 11/00 ,  G02B 5/18 ,  G02B 5/32 ,  G03H 1/18 ,  G11B 7/135 A ,  G11B 7/22
F-Term (27)：
2H049AA40 ,  2H049AA43 ,  2H049AA57 ,  2H049AA65 ,  2H049CA08 ,  2H049CA20 ,  2H049CA28 ,  2K008AA00 ,  2K008GG05 ,  4F213AA44 ,  4F213AH73 ,  4F213AH79 ,  4F213AJ03 ,  4F213AJ06 ,  4F213WA05 ,  4F213WA53 ,  4F213WA56 ,  4F213WA86 ,  4F213WA97 ,  4F213WB01 ,  4F213WC01 ,  5D119AA04 ,  5D119AA38 ,  5D119BA01 ,  5D119JA03 ,  5D119JA22 ,  5D119NA05
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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