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J-GLOBAL ID:200903029572697820
薄膜形成方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
小鍜治 明 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995011729
Publication number (International publication number):1996196983
Application date: Jan. 27, 1995
Publication date: Aug. 06, 1996
Summary:
【要約】【目的】 液状物質を微小ノズルより吐出して基板に付着させ、付着した液状物質を乾燥、硬化させて薄膜を形成する方法に関し、ランニングコストの安価で、しかも高速処理のできる薄膜形成方法を提供することを目的とする。【構成】 複数の微細な液体吐出用ノズル12を有するインクジェットヘッド11と基板10とを第1の相対速度で回転させ、基板10表面の全面上に液体をほぼ均一に塗布し第1の塗布状態を実現した後、第1の相対速度より大きい第2の相対速度で回転させ、第1の塗布状態から過剰に塗布された塗布液体を飛散させながら第1の塗布状態より塗布状態の均一化がなされた第2の塗布状態を有する薄膜を形成する。
Claim (excerpt):
液体を吐出する複数の微細な液体吐出用ノズルを有するインクジェットヘッドと前記液体が付着される基板とを、前記液体が前記基板の表面上に付着されるに足る第1の相対速度で回転させ、前記基板の表面の略全面上に前記液体を略均一に塗布し第1の塗布状態を実現する塗布工程と、前記塗布工程後、前記第1の相対速度より大きい第2の相対速度で回転させ、前記第1の塗布状態から過剰に塗布された塗布液体を飛散させるとともに前記第1の塗布状態より塗布状態の均一化がなされた第2の塗布状態を有する薄膜を、前記基板上に形成する工程とを有する薄膜形成方法。
IPC (2):
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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特開昭59-112872
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特開昭57-027168
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特開昭58-170565
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回転塗布方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-275895
Applicant:大日本インキ化学工業株式会社, 日本鋼管株式会社
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特開昭63-112158
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特開昭64-026458
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