位置測定装置及びそれに使用する回転レーザ装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：中村稔 (外9名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002011679
Publication number (International publication number)：2003214852
Application date： Jan. 21, 2002
Publication date： Jul. 30, 2003
Summary：

【要約】【課題】簡単な機構で水平基準面及び傾斜基準面を同時に形成することができる位置測定装置を提供する。【解決手段】本発明の位置測定装置(100)は、水平面以外の面内に広がりを持つ少なくとも2つのファンビームレーザ光(152、153)、即ち、扇形平面状に広がるレーザビームを射出しながら所定の軸線を中心に回転する回転レーザ装置(151)と、ファンビームレーザ光を受光する少なくとも1つの受光部を有する受光センサ装置(154)とを含み、ファンビームレーザ光のうちの少なくとも1つの傾斜角度は他のファンビームレーザ光の傾斜角度と異なり、ファンビームレーザ光を受光した受光部の受光状態に基づいて回転レーザ装置に対する受光センサ装置の位置を測定するように構成されていることを特徴としている。

Claim (excerpt)：

水平面以外の面内に広がりを持つ少なくとも2つのファンビームレーザ光を射出しながら所定の軸線を中心に前記ファンビームレーザ光を回転させるように構成された回転レーザ装置と、前記ファンビームレーザ光を受光する少なくとも1つの受光部を有する受光センサ装置とを含み、前記ファンビームレーザ光のうちの少なくとも1つの傾斜角度は他のファンビームレーザ光の傾斜角度と異なり、前記ファンビームレーザ光を受光した前記受光部の受光状態に基づいて、前記受光センサ装置が前記回転レーザ装置に対する前記受光センサ装置の位置を測定するように構成されていることを特徴とする位置測定装置。

IPC (2)：

G01C 15/00 103 , G01C 15/00 102

FI (2)：

G01C 15/00 103 D , G01C 15/00 102 C

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

高さ測定装置及び高さ測定方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-109094 Applicant：株式会社ソキア

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