Pat
J-GLOBAL ID:200903029946958186

有害物質処理方法及び装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 光石 俊郎 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999314766
Publication number (International publication number):2001129569
Application date: Nov. 05, 1999
Publication date: May. 15, 2001
Summary:
【要約】【課題】 埋立地浸出水や産業排水等中の例えば有機ハロゲン系化合物などのような有害物質を処理する有害物質処理方法およびその装置を提供することを課題とする。【解決手段】 有害物質を含有する排水(原水)11を導入し、該原水11中の微細な懸濁物を凝集剤12及びアルカリの添加により凝集すると共に、過酸化水素水(H2 O2 )及びオゾン含有ガス13を導入してなる凝集槽14と、上記凝集槽14に一体して設けられ、該凝集槽14で形成された凝集物をフロック状とする緩速攪拌手段15aを備えたフロック形成槽15とから構成してなる。
Claim (excerpt):
有害物質を含有する排水を導入し、該排水中の微細な懸濁物を凝集剤の添加により凝集すると共に、アルカリを添加しつつヒドロキシラジカルの存在の下で、該排水中の有害物質を分解処理することを特徴とする有害物質処理方法。
IPC (5):
C02F 1/78 ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/52 ,  C02F 1/58 ,  C02F 1/72 101
FI (6):
C02F 1/78 ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/52 K ,  C02F 1/58 A ,  C02F 1/58 F ,  C02F 1/72 101
F-Term (58):
4D015BA26 ,  4D015BB02 ,  4D015EA01 ,  4D015EA15 ,  4D015EA24 ,  4D015EA32 ,  4D015FA03 ,  4D015FA11 ,  4D015FA12 ,  4D015FA24 ,  4D015FA28 ,  4D037AA11 ,  4D037AA13 ,  4D037AB11 ,  4D037AB14 ,  4D037BA18 ,  4D037BB04 ,  4D037BB05 ,  4D037CA08 ,  4D037CA11 ,  4D037CA12 ,  4D037CA14 ,  4D038AA08 ,  4D038AA10 ,  4D038AB11 ,  4D038AB14 ,  4D038BA02 ,  4D038BA04 ,  4D038BB07 ,  4D038BB13 ,  4D038BB16 ,  4D038BB18 ,  4D038BB20 ,  4D050AA12 ,  4D050AA13 ,  4D050AB14 ,  4D050AB15 ,  4D050AB19 ,  4D050BB02 ,  4D050BB09 ,  4D050BC09 ,  4D050BC10 ,  4D050BD02 ,  4D050BD03 ,  4D050BD06 ,  4D050CA13 ,  4D050CA16 ,  4D062BA26 ,  4D062BB02 ,  4D062EA01 ,  4D062EA15 ,  4D062EA24 ,  4D062EA32 ,  4D062FA03 ,  4D062FA11 ,  4D062FA12 ,  4D062FA24 ,  4D062FA28
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
Show all

Return to Previous Page