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J-GLOBAL ID：200903038536111266

TOC成分除去の制御方法

Inventor：
楊 敏

About 楊 敏


Applicant, Patent owner：
オルガノ株式会社

About オルガノ株式会社


Agent (1)： 三浦 進二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998231419
Publication number (International publication number)：1999290878
Application date： Aug. 18, 1998
Publication date： Oct. 26, 1999
Summary：
【要約】 (修正有)【課題】 オゾンと過酸化水素の所望の比率を維持しつつTOC成分含有水からTOC成分の効率的な除去を可能とする。【解決手段】 望ましくはTOC成分含有水又はその処理水のTOC値に連動する様にオゾン供給量を制御すると共に、ORPモニター、溶存オゾンモニター又は過酸化水素モニター(好ましくはORPモニター)による上記処理水の監視(モニタリング)により過酸化水素供給量を制御して、オゾンと過酸化水素を上記TOC成分含有水に供給し、オゾンと過酸化水素から発生するヒドロキシルラジカルでTOC成分を酸化分解、除去して、処理水を得る。この処理水を更にイオン除去装置で処理し、残留有機酸成分等を除去して純水を製造できる。例えば、処理水のORPが200〜900mVとなる様に過酸化水素を供給するのが望ましい。
Claim (excerpt)：
原水としてのTOC成分含有水に過酸化水素とオゾンを供給してTOC成分を分解して処理水を得るに当たり、ORPモニター、溶存オゾンモニター又は過酸化水素モニターによる前記処理水の監視(モニタリング)により過酸化水素の供給量を制御することを特徴とするTOC成分除去の制御方法。
IPC (4)：
C02F 1/78 ,  C02F 1/00 ,  C02F 1/42 ,  C02F 1/72
FI (4)：
C02F 1/78 ,  C02F 1/00 T ,  C02F 1/42 B ,  C02F 1/72 Z
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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