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J-GLOBAL ID:200903029971792365

新規化合物及び該化合物を用いた光学的素子

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 杉村 興作 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000374330
Publication number (International publication number):2002179672
Application date: Dec. 08, 2000
Publication date: Jun. 26, 2002
Summary:
【要約】【課題】 アモルファス薄膜の形成が可能で、かつ、光反応基の高密度化を達成すること及び高い光反応転化率を得ることが可能な化合物及び該化合物を用いたフォトクロミック材料を提供。【解決手段】 一般式【化1】(但し、R1は、水素、メチル基、エチル基、メトキシ基、i-プロピル基、t-ブチル基を示し、 R2は、水素、又は炭素数1〜20の直鎖又は分岐したアルキル基又はアリール基を示し、R3は、共役可能な不飽和結合を有する任意の置換基を示す。Xは、F、Cl、Br及びI等のハロゲンを示す。)で表される化合物。
Claim (excerpt):
一般式【化1】(但し、R1は、水素、メチル基、エチル基、メトキシ基、i-プロピル基、t-ブチル基を示し、R2は、水素、又は炭素数1〜20の直鎖又は分岐したアルキル基又はアリール基を示し、R3は、共役可能な不飽和結合を有する任意の置換基を示す。Xは、F、Cl、Br及びI等のハロゲンを示す。)で表される化合物。
IPC (4):
C07D333/20 ,  C07D333/58 ,  C09K 9/02 ,  G03C 1/73 503
FI (4):
C07D333/20 ,  C07D333/58 ,  C09K 9/02 B ,  G03C 1/73 503
F-Term (3):
2H123AA00 ,  2H123AA10 ,  4C023CA07
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)

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