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J-GLOBAL ID：200903029976363292

平面アンテナ部材、これを用いたプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法

Inventor：
本郷 俊明

About 本郷 俊明


Applicant, Patent owner：
東京エレクトロン株式会社

About 東京エレクトロン株式会社


Agent (1)： 浅井 章弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999057746
Publication number (International publication number)：2000260747
Application date： Mar. 04, 1999
Publication date： Sep. 22, 2000
Summary：
【要約】【課題】 電界集中による異常放電を抑制しつつ大電力を投入することができる平面アンテナ部材を提供する。【解決手段】 被処理体Wを載置する載置台24を内部に設けて真空引き可能になされた処理容器22内に対して、複数のスロット84からプラズマ発生用のマイクロ波を導入するための平面アンテナ部材66において、前記スロットの平面形状は、曲線により囲まれた形状になされている。これにより、電界集中による異常放電を抑制しつつ大電力を投入することが可能となる。
Claim (excerpt)：
被処理体を載置する載置台を内部に設けて真空引き可能になされた処理容器内に対して、複数のスロットからプラズマ発生用のマイクロ波を導入するための平面アンテナ部材において、前記スロットの平面形状は、少なくとも一部は曲線により囲まれた形状になされていることを特徴とする平面アンテナ部材。
F-Term (16)：
5F004AA00 ,  5F004BA04 ,  5F004BA09 ,  5F004BA20 ,  5F004BB11 ,  5F004BB13 ,  5F004BB14 ,  5F004BB18 ,  5F004BB21 ,  5F004BB22 ,  5F004BB25 ,  5F004BC08 ,  5F004DA00 ,  5F004DA25 ,  5F004DA26 ,  5F004DB00
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
  • 特開平4-361529
  • 特開平3-020460
  • 特開平1-283359
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Cited by examiner (4)
  • 特開平4-361529
  • 特開平3-020460
  • 特開平1-283359
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