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J-GLOBAL ID：200903030165941120
レ-ザ-プラズマX線源装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
,
Agent (1)：
工業技術院大阪工業技術研究所長
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998376352
Publication number (International publication number)：2000188198
Application date： Dec. 21, 1998
Publication date： Jul. 04, 2000
Summary：
【要約】【課題】 LIGAプロセスに必要な波長のX線を発生させることができるレーザープラズマX線源装置を提供する。【解決手段】 レーザー発生装置1から発生されるパルスレーザー光Lを、ガスジェット装置2から噴射される高密度ガスGに照射してレーザー生成プラズマPを生成し、X線反射光学系22及びX線透過窓23により生成プラズマから発生されるX線のうち0.2〜0.6nmの波長を有するX線を選択して反射集光する。
Claim (excerpt)：
パルスレーザー光を発生し、発生したパルスレーザー光をターゲットに照射してレーザー生成プラズマを生成するためのレーザー発生装置と、前記レーザー生成プラズマから発生されるX線のうち0.2〜0.6nmの波長を有するX線を選択して反射集光するX線反射光学系とを備えるレーザープラズマX線源装置。
IPC (2)：
FI (2)：
F-Term (3)：
4C092AA06
, 4C092AA14
, 4C092AB27
Cited by examiner (1)
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レーザプラズマX線源
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平5-229174
Applicant：株式会社ニコン
Article cited by the Patent：
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