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J-GLOBAL ID：200903030238931950

微細構造体

Inventor： 冨田 忠文 ,  堀田 吉則 ,  上杉 彰男
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (3)： 渡辺 望稔 ,  三和 晴子 ,  福島 弘薫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004215402
Publication number (International publication number)：2006038506
Application date： Jul. 23, 2004
Publication date： Feb. 09, 2006
Summary：

【課題】信号強度が十分に大きく、かつ、再現性に優れた局在プラズモン共鳴を発生させる構造体の提供。 【解決手段】金属粒子が表面上に存在する電気絶縁性基材を有する構造体であって、 前記金属粒子が、厚さ2〜20nmの電気絶縁性の隔壁により分離されている、構造体。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

金属粒子が表面上に存在する電気絶縁性基材を有する構造体であって、 前記金属粒子が、厚さ2〜20nmの電気絶縁性の隔壁により分離されている、構造体。

IPC (2)：

G01N 21/65 ,  B82B 1/00

FI (2)：

G01N21/65 ,  B82B1/00

F-Term (8)：

2G043BA16 ,  2G043DA06 ,  2G043EA03 ,  2G043GA07 ,  2G043GB01 ,  2G043GB02 ,  2G043GB05 ,  2G043GB16

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• ナノ構造体とその製造方法、電子放出素子及びカ-ボンナノチュ-ブデバイスの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-047540   Applicant：キヤノン株式会社
• 構造体及び構造体の製造方法並びにこれを用いたセンサ
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-001294   Applicant：富士写真フイルム株式会社

Cited by examiner (2)

• 構造体及び構造体の製造方法並びにこれを用いたセンサ
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-001294   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• 活性表面増強ラマン分光(SERS)基板としての金属被覆ナノ結晶性シリコン
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2004-513716   Applicant：インテル・コーポレーション