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J-GLOBAL ID：200903030357505935

CVI/CVDプロセスに使用するための装置

Inventor： ルドルフ,ジェイムズ・ダブリュ. ,  パーディ,マーク・ジェイ. ,  ボック,ローウェル・ディー.
Applicant, Patent owner： ザ ビー.エフ.グッドリッチ カンパニー
Agent (1)： 大島 正孝
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1996516368
Publication number (International publication number)：1998512925
Application date： Nov. 16, 1995
Publication date： Dec. 08, 1998
Summary：

【要約】本発明は、化学浸透および析出(CVI/CVD)に使用するための装置に関する。さらに詳しくは、本発明はCVI/CVD加熱路内で反応体ガスを加熱するための予備加熱器および圧力勾配CVI/CVD法によって多孔質構造体の積層体中にマトリックスを結合するための取り付け装置に関する。本発明は、航空機のブレーキディスクの多量な(数百の)CVI/CVDプロセスが同時に行われるために、特に適している。

Claim (excerpt)：

加熱炉内に配置された封入調節板構造体であってこの封入調節板構造体は調節板構造体入口および調節板構造体出口を有し、そして加熱炉内に配置された封入導管構造体であって、この封入導管構造体は、前記封入調節板構造体を通してその調節板構造体の出口へ、ガス流入口から流入した実質的に全ての反応体ガスが流通しかつ送り込まれるようにガス流入口および該調節板構造体入口の周囲が封入されている、ことを特徴とするガス流入口から反応体ガスを流入するCVI/CVD加熱炉に使用するためのガス予備加熱器。

IPC (2)：

C23C 16/44 ,  C23C 16/04

FI (2)：

C23C 16/44 D ,  C23C 16/04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 原料ガス供給装置及びCVD装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-338807   Applicant：キヤノン株式会社
• 特開平1-119674