塗布、現像装置

Inventor： , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：井上俊夫 , 水野洋美
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005025509
Publication number (International publication number)：2006216614
Application date： Feb. 01, 2005
Publication date： Aug. 17, 2006
Summary：

【課題】高い搬送効率が得られ、装置の高さを適度に抑えることによりメンテナンスが行いやすく、また装置の長さを適度に抑えることにより設置面積の増大を阻むことのできる塗布、現像装置を提供すること。【解決手段】露光前の塗布処理を行うユニット及びユニット間の基板の搬送を行う搬送手段を備えた単位ブロックと、露光後の現像処理を行うユニット及びユニット間の基板の搬送を行う搬送手段を備えた単位ブロックと、を上下に分離すると共に、露光前の塗布処理を行うユニットを第1の積層ブロック部と第2の積層ブロック部とに前後に分散し、更に反射防止膜をレジスト膜の上に塗布するのか下に塗布するのかによって、両積層ブロック部の層を使い分ける。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

キャリアブロックにキャリアにより搬入された基板を処理部に受け渡し、この処理部にてレジスト膜を含む塗布膜を形成した後、インターフェイスブロックを介して露光装置に搬送し、前記インターフェイスブロックを介して戻ってきた露光後の基板を前記処理部にて現像処理して前記キャリアブロックに受け渡す塗布、現像装置において、 a)前記処理部は、キャリアブロック側に配置された、各々基板の搬送路がキャリアブロックからインターフェイスブロックに向かって伸びると共に互いに積層された複数の単位ブロックからなる第1の積層ブロック部と、この第1の積層ブロック部に対してインターフェイスブロック側に配置され、各々基板の搬送路が前記第1の積層ブロック部からインターフェイスブロックに向かって伸びると共に互いに積層された複数の単位ブロックからなる第2の積層ブロック部と、第1の積層ブロック部と第2の積層ブロック部との間において単位ブロックの各段毎に設けられ、両積層ブロック部の間で基板を受け渡すための中間ステージと、を備え、 b)第1の積層ブロック部は、レジスト液を塗布する前の基板に反射防止膜用の薬液を塗布するための底部反射防止膜用の単位ブロックと、基板にレジスト液を塗布するためのレジスト膜用の単位ブロックと、露光後の基板に対して現像液を塗布し現像を行うための現像用の単位ブロックと、を備え、 c)第2の積層ブロック部は、第1の積層ブロック部の底部反射防止膜用の単位ブロックに対応する高さ位置に設けられ、基板にレジスト液を塗布するためのレジスト膜用の単位ブロックと、第1の積層ブロック部のレジスト膜用の単位ブロックに対応する高さ位置に設けられ、レジスト液を塗布した後の基板に反射防止膜用の薬液を塗布するための上部反射防止膜用の単位ブロックと、第1の積層ブロック部の現像用の単位ブロックに対応する高さ位置に設けられ、露光後の基板に対して現像液を塗布し現像を行うための現像用の単位ブロックと、を備え、 d)前記各単位ブロックは、薬液を基板に塗布するための液処理ユニットと、基板を加熱する加熱ユニットと、基板を冷却する冷却ユニットと、これらユニット間で基板を搬送する単位ブロック用の搬送手段と、を備え、 e)第1の積層ブロック部における底部反射防止膜用の単位ブロックにて反射防止膜が形成された基板を、当該単位ブロックに対応する中間ステージを介して第2の積層ブロック部におけるレジスト膜用の単位ブロックに搬送し、当該基板に対してレジスト膜を形成する工程を含む処理モードと、第1の積層ブロック部におけるレジスト膜用の単位ブロックにてレジスト膜が形成された基板を、当該単位ブロックに対応する中間ステージを介して第2の積層ブロック部における上部反射防止膜用の単位ブロックに搬送し、当該基板に対して上部反射防止膜を形成する工程を含む処理モードと、を備えた特徴とする塗布、現像装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 , B05C 11/08 , B05C 13/02

FI (3)：

H01L21/30 562 , B05C11/08 , B05C13/02

F-Term (13)：

4F042AA07 , 4F042BA05 , 4F042BA25 , 4F042DF07 , 4F042DF25 , 4F042EB09 , 4F042EB12 , 4F042EB21 , 4F042EB29 , 5F046CD01 , 5F046CD05 , 5F046JA27 , 5F046LA19

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

基板処理システム及び塗布、現像装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-397558 Applicant：東京エレクトロン株式会社
特許第3337677号公報
特許第3337677号

Show all

Cited by examiner (4)

特許第3337677号
基板処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-111771 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
基板処理システム及び塗布、現像装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-397558 Applicant：東京エレクトロン株式会社

Show all

Return to Previous Page