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J-GLOBAL ID：200903076089226734

基板処理装置

Inventor：
小山 康文

About 小山 康文

, 
枦木 憲二

About 枦木 憲二

, 
山田 隆司

About 山田 隆司


Applicant, Patent owner：
大日本スクリーン製造株式会社

About 大日本スクリーン製造株式会社


Agent (1)： 杉谷 勉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003111771
Publication number (International publication number)：2004319767
Application date： Apr. 16, 2003
Publication date： Nov. 11, 2004
Summary：
【課題】スループットを向上させることができる基板処理装置を提供することを目的とする。【解決手段】この基板処理装置は、処理部と単一の主搬送機構とを含んでそれぞれが構成されている反射防止膜用処理ブロック2とレジスト膜用処理ブロック3と現像処理ブロック4とを並設してある。異常発生時に、その異常に関わるブロックに基板Wを受け入れ禁止に制御するので、異常が解消されて受け入れを再開しても、その処理ブロック基板Wを即座に受け入れることができ、スループットを向上させることができる。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
基板処理を行う処理部と、その処理部に対して基板の受け渡しを行う主搬送機構とを含んで単一の処理ブロックを構成し、処理ブロックを並設して構成される基板処理装置であって、 主搬送機構を制御する制御手段を備え、 各処理ブロックに、その処理ブロックに基板を受け入れるために基板を載置する入口基板載置部と、その処理ブロックから基板を払い出すために基板を載置する出口基板載置部とを区別して配設し、 制御手段は、異常発生時に、その異常に関わる処理ブロックに基板を受け入れ禁止に制御することを特徴とする基板処理装置。
IPC (2)：
H01L21/68 ,  H01L21/027
FI (2)：
H01L21/68 A ,  H01L21/30 562
F-Term (26)：
5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031CA07 ,  5F031FA01 ,  5F031FA02 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031GA03 ,  5F031GA49 ,  5F031LA12 ,  5F031LA13 ,  5F031MA02 ,  5F031MA03 ,  5F031MA04 ,  5F031MA06 ,  5F031PA03 ,  5F031PA10 ,  5F031PA30 ,  5F046CD01 ,  5F046CD05 ,  5F046CD06 ,  5F046JA22 ,  5F046KA10 ,  5F046LA18 ,  5F046LB09
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (7)
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Cited by examiner (8)
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