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J-GLOBAL ID：200903030492898300

ウエハの帯電軽減方法

Inventor：
沢田 等

About 沢田 等


Applicant, Patent owner：
日立電子エンジニアリング株式会社

About 日立電子エンジニアリング株式会社


Agent (1)： 梶山 佶是 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994275889
Publication number (International publication number)：1996115884
Application date： Oct. 14, 1994
Publication date： May. 07, 1996
Summary：
【要約】【目的】 プラズマCVD装置、プラズマエッチャ等の装置における、ウエハの帯電を可及的に軽減する。【構成】 反応炉筐体1の内部の、サセプタ部2およびガス噴射部3の周囲に、複数の排出口14より排出される反応済みガスG’のフローと、開閉窓12によるウエハ5のアクセス、およびガラス窓13による内部の観察とを、いずれも妨害しない切り欠き71,72 を有し、絶縁物よりなる帯電円筒体7を設け、加圧された高周波電圧±Vにより、均熱円板21に載置されたウエハ5に生ずる帯電を、帯電円筒体7に分散して軽減する。【効果】 ウエハ5の均熱円板21に対する吸着が軽減されて、炉外への引出しが容易となり、電荷Qの放電によるゲートなどの破壊が回避される。
Claim (excerpt)：
上面に反応ガスに対する吸入口を有し、側面に反応済みガスに対する複数の排出口と、被処理のウエハをアクセスする開閉窓、および内部を観察するガラス窓とを有する円筒形の反応炉筐体と、該筐体内の下部に設けられ、表面をアルマイト処理したアルミニュームよりなり、前記ウエハを載置し、かつ接地された均熱円板と、該均熱円板を加熱するヒータよりなるサセプタ部と、該筐体内の上部に、該均熱円板に対して所定の間隔に設けられ、前記吸入口より吸入された反応ガスを、該均熱円板に載置されたウエハの表面に噴射する円形のシャワー電極、および該シャワー電極と均熱円板との間に高周波電圧を加圧する高周波電圧発生器を具備する、平行平板式のプラズマCVD装置において、前記筐体内の、前記シャワー電極およびサセプタ部の周囲に、前記複数の排出口より排出される反応済みガスのフローと、前記開閉窓によるウエハのアクセス、および前記ガラス窓による内部の観察とを、いずれも妨害しない切り欠きを有し、絶縁物よりなる帯電円筒体を設け、前記加圧された高周波電圧により、前記均熱円板に載置されたウエハに生ずる帯電を、該帯電円筒体に分散して軽減することを特徴とする、ウエハの帯電軽減方法。
IPC (4)：
H01L 21/205 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/3065
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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