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J-GLOBAL ID：200903030534923408

フォトレジスト組成物

Inventor： 植木 裕美 ,  竹山 尚幹 ,  植田 裕治 ,  楠本 武宏 ,  中野 由子
Applicant, Patent owner： 住友化学工業株式会社
Agent (1)： 久保山 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992278477
Publication number (International publication number)：1994130666
Application date： Oct. 16, 1992
Publication date： May. 13, 1994
Summary：

【要約】【目的】 タイムデレイ効果の耐性に優れたフォトレジスト組成物を提供する。【構成】 アルカリ可溶性樹脂、酸発生剤及び架橋剤を含むフォトレジスト組成物であって、上記酸発生剤がpKa 3〜6の範囲にある弱酸を露光により発生する化合物の少なくとも1つ以上、及びpKa -0.7〜-10の範囲にある強酸を露光により発生する化合物の少なくとも1つ以上を含有することを特徴とするフォトレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

アルカリ可溶性樹脂、酸発生剤及び架橋剤を含むフォトレジスト組成物であって、上記酸発生剤がpKa3〜6の範囲にある弱酸を露光により発生する化合物の少なくとも1つ以上、及びpKa-0.7〜-10の範囲にある強酸を露光により発生する化合物の少なくとも1つ以上を含有することを特徴とするフォトレジスト組成物。

IPC (4)：

G03F 7/038 505 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/028 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平2-217855
  
• 感光性樹脂
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-285774   Applicant：日本電気株式会社
• ポジ型レジスト組成物並びにそれを用いるカラーフィルターの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-192140   Applicant：住友化学工業株式会社