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J-GLOBAL ID:200903030605832344
光触媒酸化チタン原料用メタチタン酸スラリー及びその製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (6):
社本 一夫
, 小野 新次郎
, 小林 泰
, 千葉 昭男
, 富田 博行
, 松本 謙
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006338032
Publication number (International publication number):2008150232
Application date: Dec. 15, 2006
Publication date: Jul. 03, 2008
Summary:
【課題】各種光触媒能に優れた光触媒用酸化チタンを製造することが可能となる、光触媒用酸化チタンの前駆体としてのメタチタン酸スラリーを提供する。【解決手段】TiO2として40g/L、及び温度を30°Cの条件に調整したときのスラリーの沈降速度を15〜30mm/30分とする光触媒酸化チタン用メタチタン酸スラリーで、硫酸チタニル溶液に、別途作製したアナターゼシードを硫酸チタニル溶液中のTiO2に対して3〜10質量%添加し、沸点以上で加熱加水分解後、ろ過、洗浄して、その後、スラリー化してpH4〜7で中和洗浄して製造される。【選択図】なし
Claim (excerpt):
TiO2として40g/L、及び温度を30°Cの条件に調整したときの沈降速度が15〜30mm/30分であることを特徴とする光触媒酸化チタン原料用メタチタン酸スラリー。
IPC (2):
FI (2):
C01G23/00 Z
, B01J35/02 J
F-Term (31):
4G047CA01
, 4G047CA02
, 4G047CB05
, 4G047CC03
, 4G047CD02
, 4G047CD04
, 4G047CD07
, 4G047JA01
, 4G169AA03
, 4G169AA05
, 4G169AA08
, 4G169BA37
, 4G169BA48A
, 4G169BB06A
, 4G169BB06B
, 4G169CA10
, 4G169CA11
, 4G169EA01Y
, 4G169EC03X
, 4G169EC03Y
, 4G169FA01
, 4G169FB23
, 4G169FB27
, 4G169FB29
, 4G169HA01
, 4G169HB01
, 4G169HC15
, 4G169HD03
, 4G169HD11
, 4G169HF05
, 4G169HF08
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
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固定化光触媒及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-073646
Applicant:昭和化学工業株式会社, 石原産業株式会社
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光触媒の製造方法、それを用いた光触媒、およびそれを用いた光触媒担体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-265389
Applicant:東洋鋼鈑株式会社
-
光触媒酸化チタンの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-190896
Applicant:住友化学株式会社
-
金属ドープ酸化チタン微粒子の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-165310
Applicant:関西ペイント株式会社
-
粘土複合体膜の形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-101502
Applicant:関西ペイント株式会社
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