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J-GLOBAL ID：200903030655298330

クリーニングガス組成物

Inventor： 佐藤 雅道 ,  飯田 貴志 ,  富岡 洋 ,  茂木 栄作 ,  福島 守之
Applicant, Patent owner： 関東電化工業株式会社
Agent (1)： 古谷 馨 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994059016
Publication number (International publication number)：1995273088
Application date： Mar. 29, 1994
Publication date： Oct. 20, 1995
Summary：

【要約】【目的】 薄膜形成時に目的物以外に堆積もしくは付着したSi化合物をプラズマレスで効率よく除去するクリーニングガス組成物を提供する。【構成】 フッ化ハロゲン化合物1種以上とハロゲン化水素、更に必要により窒素酸化物よりなるクリーニングガス組成物。

Claim (excerpt)：

フッ化ハロゲン化合物およびハロゲン化水素よりなるSi化合物の堆積物または付着物を除去するためのクリーニングガス組成物。

IPC (4)：

H01L 21/3065 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31

FI (3)：

H01L 21/302 N ,  H01L 21/302 F ,  H01L 21/31 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平3-293726
  
• 半導体製造装置の清浄方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-088599   Applicant：富士通株式会社
• 特開平3-293726