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J-GLOBAL ID:200903030667438820

給液制御養液栽培方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (4): 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  長沼 暉夫 ,  池田 幸弘
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002165134
Publication number (International publication number):2004008067
Application date: Jun. 06, 2002
Publication date: Jan. 15, 2004
Summary:
【課題】給液管理を積算日射量に基づいて行う養液栽培方法を提供することを目的とする。【解決手段】培地として易効性水分量が150リットル/m3以上、難効性水分量が50リットル/m3以上、且つ陽イオン交換容量が20cmol/kg以上である物理的・化学的緩衝力の高い培地を用い、植物一個体当たりに供給する培養液の給液量を、積算日射量1MJ/m2当たりに供給する量で調節して培地系外に排出される培養液の廃液率が給液量の15%以下となるように調整して給液制御することにより、植物を極めて効率よく良好に栽培することができる。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
植物を地面と隔離した固形培地で栽培し、給液管理を積算日射量に基づく日射比例方式で行う養液栽培方法において、 固形培地として易効性水分量が150リットル/m3以上、難効性水分量が50リットル/m3以上で且つ陽イオン交換容量が20cmol/kg以上である固形培地を用い、 植物一個体当たりに供給する培養液の給液量を、積算日射量1MJ/m2当たりに供給する量で調節して培地系外に排出される培養液の廃液率が給液量の15%以下となるように給液制御する、 ことを特徴とする植物の養液栽培方法。
IPC (1):
A01G31/00
FI (2):
A01G31/00 601B ,  A01G31/00 601F
F-Term (10):
2B314MA11 ,  2B314MA33 ,  2B314NC16 ,  2B314ND02 ,  2B314PB34 ,  2B314PC03 ,  2B314PC16 ,  2B314PC17 ,  2B314PC18 ,  2B314PC34
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)

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