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J-GLOBAL ID:200903030757651892

潰瘍組織に照射する装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 庄司 隆
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2002513547
Publication number (International publication number):2004504121
Application date: Jul. 02, 2001
Publication date: Feb. 12, 2004
Summary:
発明は患者(10)の潰瘍組織(3)をイオンビーム(2)の手段により照射する装置ならびに方法に関する。その目的の為、装置は、イオンビーム(2)を潰瘍組織(3)のスライス方向および面方向スキャニングする偏光装置(1)とイオンビーム(2)の深さ方向および深さ方向スキャニングのためのイオンビーム制御装置を有する。電磁気的に駆動するイオン破壊装置(11,12)がイオンビーム(2)の範囲に適応する深さ方向スキャニング適応装置(5)を備え、加速器のエネルギー制御装置より高速の深さ方向適応を有する。患者の動きは処理スペース(8)内の潰瘍の時間的、位置的変化を検知する動き検知手段によりモニターされる。制御装置は、処理スペース(8)内の潰瘍組織(3)の場所の時間的、位置的変化における潰瘍組織(3)のスキャニングの際、偏光装置(1)とイオンビーム方向とイオンビーム範囲のそれぞれを調整する深さ方向適応装置(5)を制御する。
Claim (excerpt):
イオンビーム(2)により患者(10)の潰瘍組織を照射する、潰瘍組織(3)のスライス方向ならびに面方向スキャニング用イオンビーム(2)の緩衝装置(1)と、潰瘍組織(3)の段階的および深さ方向のイオンビームエネルギー制御装置を備えた加速装置を有する装置において、 装置がさらに、イオンビーム(2)の範囲に適応させるための深さ方向スキャニング適応装置(5)として使われ、加速装置のエネルギー制御装置より速い深さ方向適応性を有する電磁的に駆動するイオンブレーキング装置(11,12); 処理空間(8)における潰瘍組織(3)の場所の時間的ならびに位置的変化を検知するための動き検知装置(7);および 処理空間(8)における潰瘍組織(3)の場所の時間的ならびに位置的変化を検知する過程において潰瘍組織(3)をスキャニングする際、イオンビーム方向およびイオンビーム範囲のそれぞれを調整するために、緩衝装置(1)および深さ方向スキャニング適応装置を制御する制御装置、 を有することを特徴とする装置。
IPC (5):
A61N5/10 ,  G21K1/093 ,  G21K3/00 ,  G21K5/00 ,  G21K5/04
FI (8):
A61N5/10 D ,  A61N5/10 M ,  G21K1/093 S ,  G21K3/00 S ,  G21K3/00 Y ,  G21K3/00 Z ,  G21K5/00 R ,  G21K5/04 A
F-Term (15):
4C082AA01 ,  4C082AC05 ,  4C082AE01 ,  4C082AG05 ,  4C082AG08 ,  4C082AG09 ,  4C082AG12 ,  4C082AG33 ,  4C082AG42 ,  4C082AJ07 ,  4C082AP01 ,  4C082AP07 ,  4C082AP08 ,  4C082AR02 ,  4C082AR12
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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