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J-GLOBAL ID：200903030787035967

静電チャック及びその作製方法並びに基板処理装置及び基板搬送装置

Inventor：
菊地 一夫

About 菊地 一夫


Applicant, Patent owner：
ソニー株式会社

About ソニー株式会社


Agent (1)： 山本 孝久
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993019462
Publication number (International publication number)：1994216224
Application date： Jan. 13, 1993
Publication date： Aug. 05, 1994
Summary：
【要約】【目的】吸引力が強く、耐摩耗性、耐熱性、耐プラズマ性、真空特性、表面平滑性、絶縁特性に優れ、熱伝導率が高く、高強度を有する、基板載置部を兼ねた静電チャック及びその作製方法を提供する。【構成】静電チャックは、電極を兼ねた金属から成る基板載置部10、及び基板載置部の表面に低温ロウ付け材料14にて接着されたセラミック板12から成る。静電チャックの作製方法は、電極を兼ねた金属から成る基板載置部10の表面にセラミック板12を低温ロウ付け材料14を用いて低温ロウ付け法にて接着させた後、セラミック板12の表面を研磨してセラミック板12の厚さを所望の厚さにする。
Claim (excerpt)：
静電チャック用電極を兼ねた金属から成る基板載置部、及び該基板載置部の表面に低温ロウ付け材料にて接着されたセラミック板から成ることを特徴とする静電チャック。
IPC (5)：
H01L 21/68 ,  B23Q 3/15 ,  B65G 49/07 ,  H02N 13/00 ,  H01L 21/302
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (6)
  • 静電吸着装置及びその方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-195058   Applicant：株式会社日立製作所
  • 特開平4-367247
  • 特開昭62-263895
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Cited by examiner (4)
  • 静電吸着装置及びその方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-195058   Applicant：株式会社日立製作所
  • 特開平4-367247
  • 特開昭62-263895
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