クリーンルーム

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：大岩増雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996249529
Publication number (International publication number)：1998096332
Application date： Sep. 20, 1996
Publication date： Apr. 14, 1998
Summary：

【要約】【課題】半導体装置製造工程において、化学物質を使用する製造装置からの化学物質の拡散を完全に防止できると共に、半導体ウェハの搬送時や保管時等のケミカル汚染を防止するための必要に応じた空調管理を低コストで行えるクリーンルームを提供する。【解決手段】クリーンルーム1を空調系統が独立した複数のエリアに分離し、化学物質を漏出する製造装置6aを配置した第二のクリーンルーム1bでは、循環ダクト13にケミカルフィルタ設置し作業ゾーン5で生じたケミカルミストを除去したエアを天井チャンバー4に循環する空調方式を採用し、異なる空調系統を有するエリアへのケミカルミストの拡散を防止している。また、搬送装置7a、7bや保管装置8a、8b等が設置された第一のクリーンルーム1aでは、ケミカルフリーエアを必要な領域にのみ局所的に供給する空調方式を採用する。

Claim (excerpt)：

外調機により外気を所定の温湿度および所定の除塵レベルに制御されたエアが供給される天井チャンバーと、高性能フィルタが配置された天井フィルタ部と、上記天井チャンバーのエアが上記天井フィルタ部により清浄化されて供給される作業ゾーンと、上記作業ゾーンのグレーチィング床下に位置し、動力供給設備や環境保全設備等が配置されたユーティリティゾーンとをそれぞれ有する複数のエリア、上記作業ゾーンのエアを上記ユーティリティゾーンを経て上記天井チャンバーに各エリア毎に循環させる循環ダクトを備え、上記エリアは各別に空調管理されることを特徴とするクリーンルーム。

IPC (3)：

E04H 5/02 , F24F 7/06 , H01L 21/02

FI (3)：

E04H 5/02 B , F24F 7/06 C , H01L 21/02 D

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

クリーンルームシステム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-254846 Applicant：高砂熱学工業株式会社
特開昭63-201441
特開平4-126513

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