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J-GLOBAL ID:200903031168346750

反射測定方法および反射測定装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 中尾 俊輔 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997161445
Publication number (International publication number):1999006798
Application date: Jun. 18, 1997
Publication date: Jan. 12, 1999
Summary:
【要約】【課題】 測定対象の性状を精度よく極めて正確に測定することができ、構成も簡単であり、汎用性の高い反射測定方法および反射測定装置を提供すること。【解決手段】 測定対象領域に対して当該領域の性状に応じたほぼ法線方向から電磁波を照射し、前記測定対象領域から前記法線方向以外に反射する反射放射線を測定して測定対象領域の性状を測定することを特徴とする。
Claim (excerpt):
測定対象領域に対して当該領域の性状に応じたほぼ法線方向から電磁波を照射し、前記測定対象領域から前記法線方向以外に反射する反射放射線を測定して測定対象領域の性状を測定することを特徴とする反射測定方法。
IPC (3):
G01N 21/47 ,  G01N 21/01 ,  G01N 21/84
FI (4):
G01N 21/47 Z ,  G01N 21/01 D ,  G01N 21/84 Z ,  G01N 21/84 E
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
  • 特開昭58-111743
  • 配光特性測定装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平3-196422   Applicant:松下電器産業株式会社
  • 特開昭57-072026

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