マスク欠陥の検出方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：船橋國則
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996188984
Publication number (International publication number)：1998038812
Application date： Jul. 18, 1996
Publication date： Feb. 13, 1998
Summary：

【要約】【課題】マスク欠陥の検出時間を短縮し、このことによりマスクコストの低減を図る。【解決手段】リソグラフィの露光工程に用いられるマスクの欠陥を検出する方法であって、欠陥の検出が行われる被検出マスクに形成されたパターンを、第1検出領域と第2検出領域とに分割し、分割された領域毎に検出感度を変えて被検出マスクの欠陥の検出を行う。

Claim (excerpt)：

リソグラフィの露光工程に用いられるマスクの欠陥を検出する方法であって、欠陥の検出が行われる被検出マスクに形成されたパターンを、第1検出領域と第2検出領域とに分割する第1工程と、前記分割された領域毎に検出感度を変えて被検出マスクの欠陥の検出を行う第2工程とを有することを特徴とするマスク欠陥の検出方法。

IPC (3)：

G01N 21/88 , H01L 21/027 , H01L 21/66

FI (3)：

G01N 21/88 E , H01L 21/66 J , H01L 21/30 502 V

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

特開平2-236406
異物検査装置及び半導体装置の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-297408 Applicant：セイコーエプソン株式会社
電子回路の回路接続検証方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-321734 Applicant：日本電気アイシーマイコンシステム株式会社

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