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J-GLOBAL ID：200903031358124877

静電吸着装置

Inventor： 牧 正人 ,  水野 栄一 ,  林 俊雄 ,  野田 和夫
Applicant, Patent owner： 日本真空技術株式会社 ,  日本特殊陶業株式会社
Agent (1)： 北村 欣一 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991174095
Publication number (International publication number)：1993021585
Application date： Jul. 15, 1991
Publication date： Jan. 29, 1993
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 被処理物が静電チャックに粘着せず、ガス噴出孔から噴出するガスの圧力を高めて被処理物の中心付近と外周付近の温度差を小さくすること【構成】 冷却された基体1に被処理物5を吸着固定する静電チャック3の電極2の背面を覆う絶縁物4内に該ガスの流通空間9を形成し、該流通空間に該ガス噴出孔7を接続して設ける。該静電チャック3の背面側の多層のセラミックスの薄板のうちの中間層の薄板に長孔を形成し、該薄板を重ねて流通空間を形成する。【効果】 静電チャックの被処理物吸着面の外周付近に於いても圧力の高いガスを流すことが出来、絶縁破壊の危険もたらさずに被処理物の外周付近も良好に冷却することができるようになり、該流通空間は絶縁物の薄板にパンチング等で長孔を形成しておくことにより比較的簡単に形成することが出来る

Claim (excerpt)：

冷却機構により冷却された基体に、被処理物を静電的に吸着固定する絶縁物により覆われた少なくとも1対の電極から成る静電チャックを接着し、該静電チャックの吸着面に、これに吸着した被処理物の熱を該静電チャックに伝達するためのガスを噴出するガス噴出孔を設けた静電吸着装置に於いて、該静電チャックの電極の背面を覆う絶縁物内に該ガスの流通空間を形成し、該流通空間に該ガス噴出孔を接続して設けたことを特徴とする静電吸着装置。

IPC (2)：

H01L 21/68 ,  C23C 14/50

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平2-098957
  
• 特開昭63-300517
  
• 静電チヤツク装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-164231   Applicant：日本特殊陶業株式会社, 日本真空技術株式会社
• 特開平2-067745