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J-GLOBAL ID：200903031402204557

局所クリーンシステム

Inventor： 横山 誠 ,  遠山 雄二 ,  石川 富則 ,  本間 圭一
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所 ,  日立テクノエンジニアリング株式会社
Agent (1)： 高橋 明夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998365914
Publication number (International publication number)：2000188320
Application date： Dec. 24, 1998
Publication date： Jul. 04, 2000
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】半導体の生産分留りの向上させる局所グリーンシステムである。【解決手段】 半導体製造装置用ウェハ移載システム2において、ウェハ搬送部4のウェハキャリア接続部6の開口部の近傍、100mmの領域内に吸引用パンチング穴8を設け、該パンチング穴の下方には排気ファン7を備える。また、上面に設置される空気清浄用フィルタユニット9の清浄空気吹出口11Aからを清浄空気路を分割させ、分割された清浄空気の吹出口11Bをウェハキャリア接続部6の開口部の近傍100mmの領域内にまで延設したものである。このようにして、ウェハの塵埃汚染、または半導体製造プロセス、ウェハキャリア内への塵埃進入防止をはかる。

Claim (excerpt)：

ウェハを収納し、且つ移送するウェハキャリアを積載するウェハキャリア積載部と、該ウェハキャリアからのウェハを搬送し、外殻を有するウェハ搬送部とで半導体製造装置用ウェハ移載システムを構成し、該ウェハ搬送部の上面に空気清浄用フィルタユニットと、該ウェハ搬送部内に該空気清浄用フィルタユニットの供給する該清浄空気流路を第一の清浄空気流路と第二の清浄空気流路に分割する仕切板と、該ウェハ搬送部の外殻に該ウェハキャリアと該ウェハ搬送部との接続開口部と、該接続開口部の近傍領域内に該分割された第一の清浄空気流の吸引用開口部とを、設けたことを特徴とする局所クリーンシステム。

IPC (3)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/02 ,  B65D 85/86

FI (3)：

H01L 21/68 A ,  H01L 21/02 D ,  B65D 85/38 R

F-Term (23)：

3E096AA06 ,  3E096BA16 ,  3E096BB03 ,  3E096CA01 ,  3E096CB03 ,  3E096DA18 ,  3E096DB01 ,  3E096DC01 ,  3E096FA03 ,  3E096GA01 ,  5F031CA02 ,  5F031DA01 ,  5F031DA08 ,  5F031DA17 ,  5F031FA01 ,  5F031FA09 ,  5F031FA11 ,  5F031JA01 ,  5F031NA02 ,  5F031NA03 ,  5F031NA10 ,  5F031NA16 ,  5F031NA20

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 処理システム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-137263   Applicant：東京エレクトロン株式会社
• 被処理基板の移載装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-142274   Applicant：東京エレクトロン株式会社
• 特開平4-308123