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J-GLOBAL ID:200903031405365004

拡散材料の表面反応過程分析装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3): 高橋 詔男 ,  志賀 正武 ,  青山 正和
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002220387
Publication number (International publication number):2004061318
Application date: Jul. 29, 2002
Publication date: Feb. 26, 2004
Summary:
【課題】試料へ注入される水素の量を制御することができる拡散材料の表面反応過程分析装置を提供すること。【解決手段】水素ガスを拡散し得る試料(拡散材料)1を互いに気密状態で挟んで配置する吸蔵室2及び放出室3と、吸蔵室2内に露出した試料1の表面に前記水素ガスのプラズマを注入するプラズマ注入装置と、前記拡散材料の表面を分析する分析手段とを備える。プラズマ注入装置としては、イオンガン8を使用することができる。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
水素ガスを拡散し得る拡散材料を互いに気密状態で挟んで配置する吸蔵室及び放出室と、吸蔵室内に露出した前記拡散材料表面に前記水素ガスのプラズマを注入するプラズマ注入装置と、前記拡散材料の表面を分析する分析手段とを備えることを特徴とする拡散材料の表面反応過程分析装置。
IPC (1):
G01N23/227
FI (1):
G01N23/227
F-Term (15):
2G001AA01 ,  2G001AA05 ,  2G001BA04 ,  2G001BA08 ,  2G001CA01 ,  2G001CA03 ,  2G001CA10 ,  2G001DA06 ,  2G001GA09 ,  2G001KA01 ,  2G001LA20 ,  2G001MA05 ,  2G001PA07 ,  2G001RA10 ,  2G001RA20
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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