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J-GLOBAL ID：200903031520851605

基板水洗方法および該方法を使用する基板処理装置

Inventor： 川勝 哲夫 ,  西澤 久雄
Applicant, Patent owner： 大日本スクリーン製造株式会社
Agent (1)： 小谷 悦司 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998232812
Publication number (International publication number)：1999192459
Application date： Aug. 19, 1998
Publication date： Jul. 21, 1999
Summary：

【要約】【課題】 より少ない純水使用量で、しかも短時間で基板を洗浄することができる基板水洗方法を提供する。【解決手段】 第1または第2の薬液処理部10B,10CでCAROで薬液処理された複数の基板をシャワー水洗処理部10Dに搬送し、これらの基板に純水をシャワー状に供給して基板表面上の付着物を水洗除去している。

Claim (excerpt)：

薬液によって薬液処理された複数の基板に対して純水をシャワー状に供給して基板表面の付着物を水洗除去することを特徴とする基板水洗方法。

IPC (5)：

B08B 3/02 ,  H01L 21/304 642 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/304 643 ,  H01L 21/68

FI (5)：

B08B 3/02 B ,  H01L 21/304 642 B ,  H01L 21/304 642 F ,  H01L 21/304 643 B ,  H01L 21/68 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 洗浄装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-252602   Applicant：関西日本電気株式会社
• ウエハの洗浄方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-050506   Applicant：ソニー株式会社