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J-GLOBAL ID：200903031586997449

真空吸着テーブル

Inventor：
芦田 隆博

About 芦田 隆博

, 
谷端 陽一

About 谷端 陽一


Applicant, Patent owner：
株式会社タカトリ

About 株式会社タカトリ


Agent (1)： 和田 昭
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001128951
Publication number (International publication number)：2002324831
Application date： Apr. 26, 2001
Publication date： Nov. 08, 2002
Summary：
【要約】【課題】 サイズの異なる半導体ウェーハであってもその全面を均一に吸着保持することができ、表面保護テープの剥がし工程時や吸着テーブル面からの離脱時にウェーハにストレスをかけたり割れを生じさせることがなく、塵埃の付着による悪影響の発生もない、極薄ウェーハの吸着保持に適した真空吸着テーブルを提供する。【解決手段】 ベース21の上面に設けた円形凹部22内を同心円状の薄い環状壁23、24で区画し、少なくともこの環状壁23、24の内側でオリフラ部25〜28の位置を薄い仕切り壁29〜32で区画し、上記円形凹部22内の環状壁23、24及び仕切り壁29、32で区画されたそれぞれの部屋33〜39に通気性部材40〜46をベース21の上面と同一平面になるよう組み込み、前記ベース21の下部で各区画された部屋33〜39ごとに独立して連通するエア給排口48〜54を設け、この各給排口48〜54をエア吸引源55とエア供給源56にバルブを介して個々に独立して接続している。
Claim (excerpt)：
ベースの上面に設けた円形凹部内を同心円状の薄い環状壁で区画し、少なくともこの環状壁の内側でオリフラ部の位置を薄い仕切り壁で区画し、上記円形凹部内の環状壁及び仕切り壁で区画されたそれぞれの部屋に、区画された部屋の形状に適合する通気性部材を、それぞれの上面が同一平面になるよう組み込み、前記ベースの下部で各区画された部屋ごとに独立して連通するエア給排口を設け、この各給排口をエア吸引源とエア供給源の何れかとバルブを介して個々に独立して接続するようにした真空吸着テーブル。
IPC (4)：
H01L 21/68 ,  B65H 9/00 ,  H01L 21/301 ,  H01L 21/304 622
FI (4)：
H01L 21/68 P ,  B65H 9/00 L ,  H01L 21/304 622 H ,  H01L 21/78 N
F-Term (14)：
3F102AA20 ,  3F102AB09 ,  3F102BA08 ,  3F102BB01 ,  3F102DA11 ,  3F102FA01 ,  5F031CA02 ,  5F031HA02 ,  5F031HA14 ,  5F031HA33 ,  5F031HA34 ,  5F031PA16 ,  5F031PA20 ,  5F031PA23
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)

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