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J-GLOBAL ID：200903031680893754

高減衰ゴム組成物

Inventor：
西村 圭司

About 西村 圭司

, 
末安 知昌

About 末安 知昌

, 
若菜 裕一郎

About 若菜 裕一郎


Applicant, Patent owner：
株式会社ブリヂストン

About 株式会社ブリヂストン


Agent (4)： 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  西元 勝一 ,  福田 浩志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005234192
Publication number (International publication number)：2007045998
Application date： Aug. 12, 2005
Publication date： Feb. 22, 2007
Summary：
【課題】 ヒステリシスロスが大きく、使用時に良好な作業性を発揮し得るゴム組成物を提供する。【解決手段】 少なくともゴム成分と芳香族オリゴマーとを含む高減衰ゴム組成物であって、前記芳香族オリゴマーが、その少なくとも一方の末端に2以上の水酸基を有することを特徴とする高減衰ゴム組成物である。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
少なくともゴム成分と芳香族オリゴマーとを含む高減衰ゴム組成物であって、 前記芳香族オリゴマーが、その少なくとも一方の末端に2以上の水酸基を有することを特徴とする高減衰ゴム組成物。
IPC (6)：
C08L 21/00 ,  C08K 5/053 ,  C09K 3/00 ,  F16F 15/08 ,  F16F 1/36 ,  F16F 7/00
FI (6)：
C08L21/00 ,  C08K5/053 ,  C09K3/00 P ,  F16F15/08 D ,  F16F1/36 C ,  F16F7/00 B
F-Term (25)：
3J048AA01 ,  3J048AC01 ,  3J048BA08 ,  3J048BA11 ,  3J048EA38 ,  3J059AB20 ,  3J059AD06 ,  3J059BA41 ,  3J059BC06 ,  3J066AA26 ,  3J066AA29 ,  4J002AC011 ,  4J002AC031 ,  4J002AC061 ,  4J002AC081 ,  4J002BB121 ,  4J002BB151 ,  4J002BB181 ,  4J002BB241 ,  4J002CK021 ,  4J002CP031 ,  4J002EC056 ,  4J002EC066 ,  4J002FD206 ,  4J002GL00
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3)

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