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J-GLOBAL ID：200903031713947707

光信号を処理する方法及び装置

Inventor：
渡辺 茂樹

About 渡辺 茂樹


Applicant, Patent owner：
富士通株式会社

About 富士通株式会社


Agent (1)： 松本 昂
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002197538
Publication number (International publication number)：2004038016
Application date： Jul. 05, 2002
Publication date： Feb. 05, 2004
Summary：
【課題】本発明は光信号を処理するための方法及び装置に関し、高いS/N比及び大きいスペクトル拡散率を得ることができるSC光の発生に適した光信号の処理方法及び装置を提供することが主な目的である。【解決手段】本発明による方法は、光信号を処理する方法であって、(a)信号光を第1の非線形光学媒質4に入力し、第1の非線形光学媒質4内で発生する自己位相変調により信号光のスペクトルを拡大するステップと、(b)前記処理の過程で信号光に対して生じる波長分散を補償するステップと、(c)前記ステップ(a)及び(b)を経た信号光を第2の非線形光学媒質8に入力し、第2の非線形光学媒質8内で発生する自己位相変調により信号光のスペクトルを更に拡大するステップとを備えている。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
光信号を処理する方法であって、 (a)信号光を第1の非線形光学媒質に入力し、第1の非線形光学媒質内で発生する自己位相変調により信号光のスペクトルを拡大するステップと、 (b)前記処理の過程で信号光に対して生じる波長分散を補償するステップと、 (c)前記ステップ(a)及び(b)を経た信号光を第2の非線形光学媒質に入力し、第2の非線形光学媒質内で発生する自己位相変調により信号光のスペクトルを更に拡大するステップとを備えた方法。
IPC (2)：
G02F1/35 ,  G02F1/365
FI (2)：
G02F1/35 ,  G02F1/365
F-Term (14)：
2K002AA02 ,  2K002AB09 ,  2K002AB12 ,  2K002AB27 ,  2K002BA02 ,  2K002CA03 ,  2K002CA13 ,  2K002CA15 ,  2K002DA10 ,  2K002EA10 ,  2K002EA30 ,  2K002HA26 ,  2K002HA27 ,  2K002HA31
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (4)
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Article cited by the Patent：
Cited by applicant (1) Cited by examiner (2)

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