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J-GLOBAL ID:200903031730540327

光学的透明性及び高温耐性を有する高屈折率のポリシロキサン

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3): 河宮 治 ,  鮫島 睦 ,  玄番 佐奈恵
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2006503597
Publication number (International publication number):2006519896
Application date: Feb. 13, 2004
Publication date: Aug. 31, 2006
Summary:
60〜75重量%のフェニル基を有するポリシロキサンを含んでなる部分A組成物、50〜90重量%のフェニル基を有するポリシロキサンを含んでなる部分B組成物及び触媒の架橋生成物である熱的安定性を有するポリシロキサン組成物である。この組成物は、1.0cmの光路長で400nmの波長の光について90%又はそれ以上の透過率である光学的透明性;150°Cに6時間さらした後に、1.0cmの光路長で400nmの波長の光について90%又はそれ以上の透過率を保持する熱安定性;並びに589nmで1.545又はそれ以上の屈折率という特性を有している。この組成物は、発光ダイオード用の光学的透明カバー又はレンズ、並びにその他の光学的デバイス等の用途に適している。
Claim (excerpt):
(1)1.0cmの光路長で400nmの波長の光について90%又はそれ以上の透過率である光学的透明性; (2)150°Cに6時間さらした後に、1.0cmの光路長で400nmの波長の光について90%又はそれ以上の透過率を保持する熱安定性;並びに (3)589nmで1.545又はそれ以上の屈折率 を有する熱的安定性ポリシロキサン組成物。
IPC (4):
C08L 83/04 ,  G02B 1/04 ,  H01L 33/00 ,  G02B 6/12
FI (4):
C08L83/04 ,  G02B1/04 ,  H01L33/00 N ,  G02B6/12 N
F-Term (11):
2H147EA18A ,  2H147EA18B ,  2H147GA10 ,  2H147GA15 ,  2H147GA19 ,  4J002CP03W ,  4J002CP03X ,  4J002GQ05 ,  5F041AA04 ,  5F041AA44 ,  5F041DA45
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

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