光学薄膜の製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：中村純之助 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998207301
Publication number (International publication number)：2000039514
Application date： Jul. 23, 1998
Publication date： Feb. 08, 2000
Summary：

【要約】【課題】ディスク基板上で膜厚分布を有する光学薄膜を形成する際、従来は薄膜の堆積速度が一定であることを前提として、遮蔽マスクの回転総数を大きくすることにより所望の膜厚分布を実現する方法が採られていた。しかしこの方法では薄膜堆積速度を安定化させる必要があり、かつ製造に時間を要していた。【解決手段】膜厚モニタから得られた薄膜堆積速度の変動を検出し、この検出結果をモータ制御系にフィードバックし回転数制御を行なうことにより遮蔽マスクの回転総数の数を低減している。またロータリエンコーダまたはディスク基板に基準マークを設け、これによりディスク基板上の絶対位置を規定することにより多層膜形成の位置精度を向上することが出来、特性の良い光学多層膜フィルタを実現し得る。

Claim (excerpt)：

光学薄膜を堆積するディスク基板表面に沿って扇状窓を形成する複数の遮蔽マスクを配置し、該複数の遮蔽マスクの内の少なくとも一枚以上の遮蔽マスクをそれぞれ異なる回転速度で回転させることにより、前記ディスク基板の円周方向に沿った扇状窓の見込み角に応じて膜厚が変化するように光学薄膜をディスク基板上に堆積する方法において、前記光学薄膜の堆積速度に応じて、少なくとも一枚以上の異なる回転速度で回転する上記遮蔽マスクの回転速度を制御することを特徴とする光学薄膜の製造方法。

IPC (4)：

G02B 5/28 , C23C 14/04 , G02B 1/11 , G11B 7/26

FI (4)：

G02B 5/28 , C23C 14/04 A , G11B 7/26 Z , G02B 1/10 A

F-Term (13)：

2H048GA12 , 2H048GA60 , 2H048GA62 , 2K009DD03 , 2K009DD04 , 2K009DD09 , 4K029BC07 , 4K029BD00 , 4K029BD11 , 4K029BD12 , 4K029DA13 , 4K029EA00 , 4K029JA02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特表平2-502490
多波長選択光学フィルタの製造装置及び多波長選択光学フィルタ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-048648 Applicant：横河電機株式会社
特開昭61-066926

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