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J-GLOBAL ID:200903031880062776

IgE産生抑制剤

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 遠山 勉 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000237679
Publication number (International publication number):2002047176
Application date: Aug. 04, 2000
Publication date: Feb. 12, 2002
Summary:
【要約】【課題】 IgEが関与する皮膚症状等の治療に用いることができる新規なIgE産生抑制剤を提供する【解決手段】 γ-リノレン酸、ジホモ-γ-リノレン酸及びこれらの誘導体から選ばれる一種または二種以上を、IgE産生抑制剤の有効成分とする。
Claim (excerpt):
γ-リノレン酸、ジホモ-γ-リノレン酸及びこれらの誘導体から選ばれる一種または二種以上を有効成分として含有するIgE産生抑制剤。
IPC (3):
A61K 31/19 ,  A61P 17/00 ,  A61P 37/08
FI (3):
A61K 31/19 ,  A61P 17/00 ,  A61P 37/08
F-Term (10):
4C206AA01 ,  4C206AA02 ,  4C206DA04 ,  4C206DA05 ,  4C206MA02 ,  4C206MA04 ,  4C206MA83 ,  4C206NA14 ,  4C206ZA89 ,  4C206ZB13
Article cited by the Patent:
Cited by examiner (2)

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