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J-GLOBAL ID：200903031918109020

防汚層の形成方法

Inventor： 伊橋 紀孝 ,  大畑 浩一 ,  富川 典俊
Applicant, Patent owner： 凸版印刷株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999118824
Publication number (International publication number)：2000308846
Application date： Apr. 26, 1999
Publication date： Nov. 07, 2000
Summary：

【要約】【課題】各種光学部材などの被処理基材の表面を前処理を行うことによって、耐防汚性、耐擦傷性、耐溶剤性等に優れた防汚層を短時間に形成することが叫ばれており、この課題の解決を目的とする。【解決手段】被処理基材上の少なくとも片面に、防汚剤を用いて防汚層を形成する方法であって、前記防汚層を形成する前に、前記被処理基材上の少なくとも片面を前処理し、この前処理した表面に防汚層を成膜する方法を提供する。

Claim (excerpt)：

被処理基材上の少なくとも片面に、防汚剤を用いて防汚層を形成する方法であって、前記防汚層を形成する前に、前記被処理基材上の少なくとも片面を前処理し、この前処理した表面に防汚層を成膜することを特徴とする防汚層の形成方法。

IPC (9)：

B05D 5/00 ,  B05D 3/10 ,  B05D 7/00 ,  B08B 17/02 ,  C09D 5/16 ,  C09D183/00 ,  C09K 3/00 112 ,  C09K 3/18 104 ,  G02B 1/10

FI (9)：

B05D 5/00 H ,  B05D 3/10 E ,  B05D 7/00 E ,  B08B 17/02 ,  C09D 5/16 ,  C09D183/00 ,  C09K 3/00 112 F ,  C09K 3/18 104 ,  G02B 1/10 Z

F-Term (28)：

2K009BB01 ,  2K009CC42 ,  2K009DD03 ,  2K009DD08 ,  2K009EE05 ,  3B117AA08 ,  4D075BB21X ,  4D075BB47X ,  4D075BB49X ,  4D075BB81X ,  4D075BB85X ,  4D075CA34 ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4D075DC24 ,  4D075EA05 ,  4D075EB42 ,  4D075EB52 ,  4H020BA36 ,  4J038DF041 ,  4J038GA02 ,  4J038GA15 ,  4J038NA04 ,  4J038NA05 ,  4J038NA11 ,  4J038PB08 ,  4J038PC03 ,  4J038PC08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 表面改質膜用組成物、表面改質膜、表示装置用フィルター及び表示装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-276358   Applicant：ソニー株式会社
• 液晶表示装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-113202   Applicant：セイコーエプソン株式会社