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J-GLOBAL ID：200903024986660340

表面改質膜用組成物、表面改質膜、表示装置用フィルター及び表示装置

Inventor：
近藤 洋文

About 近藤 洋文

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花岡 英章

About 花岡 英章

, 
小林 富夫

About 小林 富夫


Applicant, Patent owner：
ソニー株式会社

About ソニー株式会社


Agent (1)： 佐藤 隆久
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996276358
Publication number (International publication number)：1998120444
Application date： Oct. 18, 1996
Publication date： May. 12, 1998
Summary：
【要約】【課題】優れた耐汚染性、耐擦傷性、耐加工性などが要求される反射防止性を有する表示装置等に適用され、均一塗布性に優れた表面改質膜用組成物、この組成物により成膜された表面改質膜、それを有するフィルター、表示装置を提供する。【手段】下記一般式(1)及び/又は(2)で示されるアルコキシシラン化合物をフッ素化炭化水素系溶媒に溶解して組成物を調製し、これを用いて表面改質膜を成膜し、フィルター、表示装置を得る。式中、Rfはフルオロアルキル基又はパーフルオロポリエーテル基、R1は二価の原子又は原子団、R2は非置換又は置換の二価炭化水素基、R3は非置換又は置換の一価炭化水素基を示し、jは1又は2である。 Rf{-R1-R2-Si(OR3)3}j ...(1)Rf{Si(OR3)3}j ...(2)
Claim (excerpt)：
下記一般式(1)及び/又は(2)で示されるアルコキシシラン化合物をフッ素化炭化水素系溶媒に溶解してなることを特徴とする表面改質膜用組成物。Rf{-R1-R2-Si(OR3)3}j ...(1)Rf{Si(OR3)3}j ...(2)(但し、式中、Rfはフルオロアルキル基又はパーフルオロポリエーテル基、R1は二価の原子又は原子団、R2は非置換又は置換の二価炭化水素基、R3は非置換又は置換の一価炭化水素基を示し、jは1又は2である。)
IPC (6)：
C03C 17/30 ,  C03C 17/42 ,  C09D183/04 ,  G02B 1/11 ,  G02F 1/1333 500 ,  G09F 9/00
FI (6)：
C03C 17/30 B ,  C03C 17/42 ,  C09D183/04 ,  G02F 1/1333 500 ,  G09F 9/00 ,  G02B 1/10 A
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (13)
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