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J-GLOBAL ID:200903032090294827
改善した並列フィラメント電子銃
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
古谷 馨 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992306919
Publication number (International publication number):1993225934
Application date: Nov. 17, 1992
Publication date: Sep. 03, 1993
Summary:
【要約】 (修正有)【目的】 幅を変化させることができ、また改善されたビームの均一性を達成できまた有する極端に広い幅の構造的特徴を有する電子銃を提供する。【構成】 電子ビーム放射加速器又は発生器及び同様の機器のための新規な並列フィラメント型の電子銃で、電子を発生するための、複数の縦方向に延び、横方向に平行して隔てられ、下方の同一の広がりを有する抽出器グリッドGと電子ビーム特性を形成するための上方の同一の広がりを有する静電レンズESL表面との間に延びたほぼ同一平面上の類似したフィラメントFを備える。
Claim (excerpt):
照射される表面の行程の縦方向に対して横方向に沿った電子ビーム放射を発生する電子ビーム銃であって、同時にそれを通って通過する電流により加熱されたときに電子を発生する複数の縦方向に伸びた平行な横方向に隔てられたほぼ同一平面の類似したフィラメントと、前記フィラメントの一方の側面から隔てられ該フィラメントの領域とほぼ同一の広がりを有し、各フィラメントから抽出器グリッドへの及びそれを通る電子の流れを修正して所望の均一性と特性とを有する連続的な横方向に発生する電子ビームを形成するように該フィラメントに関して同一の極性のほぼ平面の抽出器グリッドとを組み合わせて有することを特徴とする電子ビーム銃。
IPC (2):
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (11)
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特開昭54-101658
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特開昭61-183859
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特開昭55-126196
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特開昭62-165983
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電子顕微鏡等の試料装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-044370
Applicant:日本電子株式会社
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プラズマ生成装置およびイオンプレーティング方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-059240
Applicant:株式会社ニコン
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極低温冷却装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-286599
Applicant:アイシン精機株式会社
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特許第3863163号
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特許第3956712号
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エネルギー分散型X線分析装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-165294
Applicant:日本電子株式会社
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Ge半導体検出器
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-230548
Applicant:株式会社東芝, 岩谷産業株式会社, イワタニプランテック株式会社
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